[發明專利]屏蔽環、屏蔽裝置、電鍍設備及電鍍方法

在審

• 申請號: 201911017276.X
• 申請日: 2019-10-24
• 公開（公告）號: CN110565150A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發明（設計）人: 史蒂文·賀·汪
• 申請（專利權）人: 新陽硅密(上海)半導體技術有限公司
• 主分類號: C25D17/00
• 分類號: C25D17/00;C25D7/12;C25D21/10
• 代理公司: 31283 上海弼興律師事務所
• 代理人: 王衛彬;何橋云

1.一種屏蔽環，用于晶圓電鍍，其特征在于，所述屏蔽環包括擾流部，所述擾流部與所述屏蔽環的內環面相連接，所述擾流部用于擾動電鍍所述晶圓的電鍍液，以使所述晶圓被均勻的電鍍。

2.如權利要求1所述的屏蔽環，其特征在于，所述擾流部具有擾流面，所述擾流面向所述內環面的軸線延伸，自所述擾流部與所述內環面的連接處至所述擾流部的末端，所述擾流面在垂直于所述內環面的平面內的投影的面積先大再小、先小再大、大小不變、或變大變小交替進行。

3.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述擾流部的末端還沿所述內環面的軸線向遠離所述屏蔽環的方向延伸。

4.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環具有一個或多個所述擾流部，當為多個時，多個擾流部各自的形狀相同或不同，多個所述擾流部均勻或非均勻的間隔設置在所述內環面上。

5.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述擾流部的形狀為鏤空狀、多孔狀、齒狀、扇葉狀或槳葉狀的一種。

6.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環還包括連接部，所述連接部設置在所述擾流部之間，以使所述擾流部連接為一整體結構。

7.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環由絕緣材料制成；較佳地，所述絕緣材料為聚丙烯、高密度聚乙烯、聚偏二氟乙烯或聚四氟乙烯中的一種或多種，多種所述絕緣材料之間以塑料焊接的工藝相連接。

8.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環的外側面為圓形，所述外側面的直徑為所述晶圓直徑的95％-110％；

和/或，所述內環面的直徑為所述外側面的直徑的80％-90％。

9.如權利要求8所述的屏蔽環，其特征在于，所述外側面的直徑為327mm；和/或，所述內環面的直徑為277mm。

10.如權利要求8所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環的外側面設有凹槽，所述凹槽的截面為圓弧形；

和/或，所述內環面與所述外側面之間的厚度均勻；或者所述內環面與所述外側面之間的厚度沿徑向由內向外變薄；

和/或，所述擾流部的長度的范圍為13mm-15mm；

和/或，所述擾流部沿所述內環面的徑向的長度的范圍為10mm-13mm。

11.如權利要求2所述的屏蔽環，其特征在于，所述屏蔽環還包括驅動部，所述驅動部設置在所述屏蔽環的側面，所述驅動部用于接受所述電鍍液的作用，以使所述屏蔽環轉動。

12.如權利要求11所述的屏蔽環，其特征在于，所述驅動部沿所述內環面的周向均勻的間隔設置。

13.一種屏蔽裝置，用于晶圓電鍍，其特征在于，所述屏蔽裝置包括如權利要求1-12中任意一項所述的屏蔽環。

14.如權利要求13所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽裝置還包括固定部，所述固定部具有通孔，所述屏蔽環可旋轉的安裝于所述通孔內，所述固定部用于將所述屏蔽環安裝至電鍍設備內；

和/或，所述屏蔽裝置還包括動力部，所述動力部作用于所述屏蔽環，以使所述屏蔽環轉動；

和/或，所述屏蔽裝置還具有沉槽，所述屏蔽環卡設于所述沉槽內。

15.如權利要求14所述的屏蔽裝置，其特征在于，所述屏蔽裝置還包括滾珠，所述滾珠設置在所述屏蔽環與所述沉槽之間。