[發(fā)明專利]光學(xué)特性評價(jià)方法以及光學(xué)特性評價(jià)系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201911017114.6
• 申請日: 2019-10-24
• 公開（公告）號: CN111103241B
• 公開（公告）日: 2022-10-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 增田修;平林和彥;田中博文;中島孝治
• 申請（專利權(quán)）人: 柯尼卡美能達(dá)株式會社
• 主分類號: G01N21/21
• 分類號: G01N21/21;G02F1/13
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 金蘭

1.一種光學(xué)特性評價(jià)方法，基于對評價(jià)對象的光學(xué)膜以及檢偏振器進(jìn)行了透射的光的偏振狀態(tài)的分析，評價(jià)該光學(xué)膜的光學(xué)特性的不均勻性，所述方法的特征在于，

針對多個(gè)部位測量所述光學(xué)膜的相位差以及取向角，且使用表示入射光的偏振狀態(tài)的矢量、和至少表示所述光學(xué)膜以及所述檢偏振器的偏振特性的矩陣，基于通過下述運(yùn)算式1而運(yùn)算出的出射光的矢量的參數(shù)，對光學(xué)特性的不均勻性進(jìn)行定量化并評價(jià)，

F2＝M×F1 (運(yùn)算式1)

其中，

F1：入射光的斯托克斯矢量；

F2：出射光的斯托克斯矢量；

M：針對評價(jià)對象的光學(xué)膜以及檢偏振器的穆勒矩陣，

至少經(jīng)過下述步驟(1)～(8)，基于對所述光學(xué)膜進(jìn)行了透射的光的偏振狀態(tài)的分析，評價(jià)光學(xué)特性的不均勻性，

步驟1：針對評價(jià)對象的光學(xué)膜，選擇規(guī)定面積的多個(gè)測量區(qū)域，針對該測量區(qū)域內(nèi)包含的規(guī)定大小的各個(gè)像素，測量相位差以及取向角的步驟；

步驟2：用斯托克斯矢量表達(dá)并設(shè)定入射光的偏振狀態(tài)的步驟；

步驟3：設(shè)定所述檢偏振器的穆勒矩陣的步驟；

步驟4：針對各個(gè)所述像素，設(shè)定所述光學(xué)膜的穆勒矩陣的步驟；

步驟5：針對各個(gè)所述像素，使用所述運(yùn)算式而計(jì)算出射光的斯托克斯矢量的步驟；

步驟6：針對各個(gè)所述像素，用規(guī)定比特?cái)?shù)的濃淡度來表達(dá)所述出射光的斯托克斯矢量中的涉及光強(qiáng)度的參數(shù)的步驟；

步驟7：在所述濃淡度表達(dá)中設(shè)定閾值并進(jìn)行二值化而表達(dá)的步驟；

步驟8：使用二值化而表達(dá)的結(jié)果來創(chuàng)建顯示不均勻的指標(biāo)的步驟。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)特性評價(jià)方法，其特征在于，

所述出射光的矢量的參數(shù)通過下述運(yùn)算式2來運(yùn)算：

F2＝f1×f2×F1 (運(yùn)算式2)

其中，

f1：針對評價(jià)對象的光學(xué)膜的穆勒矩陣或者瓊斯矩陣；

f2：針對檢偏振器的穆勒矩陣或者瓊斯矩陣。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)特性評價(jià)方法，其特征在于，

將所述光學(xué)膜的取向角設(shè)為θ1并將所述檢偏振器的透射軸方位設(shè)為θ2時(shí)，設(shè)定為滿足下述式3的條件而進(jìn)行運(yùn)算，

|θ1-θ2|≤10° (式3)

其中，θ1≠θ2。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)特性評價(jià)方法，其特征在于，

將所述光學(xué)膜的取向角設(shè)為θ1并將所述檢偏振器的透射軸方位設(shè)為θ2時(shí)，設(shè)定為滿足下述式4的條件而進(jìn)行運(yùn)算；

|θ1-θ2|≤2° (式4)

其中，θ1≠θ2。

5.一種光學(xué)特性評價(jià)系統(tǒng)，其基于對評價(jià)對象的光學(xué)膜以及檢偏振器進(jìn)行了透射的光的偏振狀態(tài)的分析，評價(jià)該光學(xué)膜的光學(xué)特性的不均勻性，其特征在于，具備：

執(zhí)行部，其針對多個(gè)部位測量所述光學(xué)膜的相位差以及取向角，且使用表示入射光的偏振狀態(tài)的矢量、和至少表示所述光學(xué)膜以及所述檢偏振器的偏振特性的矩陣，基于通過下述運(yùn)算式1而運(yùn)算出的出射光的矢量的參數(shù)，對光學(xué)特性的不均勻性進(jìn)行定量化并評價(jià)，

F2＝M×F1 (運(yùn)算式1)

其中，

F1：入射光的斯托克斯矢量；

F2：出射光的斯托克斯矢量；

M：針對評價(jià)對象的光學(xué)膜以及檢偏振器的穆勒矩陣，

至少經(jīng)過下述步驟(1)～(8)，基于對所述光學(xué)膜進(jìn)行了透射的光的偏振狀態(tài)的分析，評價(jià)光學(xué)特性的不均勻性，

步驟1：針對評價(jià)對象的光學(xué)膜，選擇規(guī)定面積的多個(gè)測量區(qū)域，針對該測量區(qū)域內(nèi)包含的規(guī)定大小的各個(gè)像素，測量相位差以及取向角的步驟；

步驟2：用斯托克斯矢量表達(dá)并設(shè)定入射光的偏振狀態(tài)的步驟；

步驟3：設(shè)定所述檢偏振器的穆勒矩陣的步驟；

步驟4：針對各個(gè)所述像素，設(shè)定所述光學(xué)膜的穆勒矩陣的步驟；

步驟5：針對各個(gè)所述像素，使用所述運(yùn)算式而計(jì)算出射光的斯托克斯矢量的步驟；

步驟6：針對各個(gè)所述像素，用規(guī)定比特?cái)?shù)的濃淡度來表達(dá)所述出射光的斯托克斯矢量中的涉及光強(qiáng)度的參數(shù)的步驟；

步驟7：在所述濃淡度表達(dá)中設(shè)定閾值并進(jìn)行二值化而表達(dá)的步驟；

步驟8：使用二值化而表達(dá)的結(jié)果來創(chuàng)建顯示不均勻的指標(biāo)的步驟。