[發明專利]一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法有效
| 申請號： | 201911015514.3 | 申請日： | 2019-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN110596009B | 公開（公告）日： | 2022-03-18 |
| 發明（設計）人： | 曾呂明;紀軒榮;吳俊偉;鄧麗軍;樸忠烈;丁宇;周陽 | 申請（專利權）人： | 南昌洋深電子科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/17 | 分類號： | G01N21/17;G01N21/01;G01N29/06;G01N29/24 |
| 代理公司： | 南昌大牛知識產權代理事務所(普通合伙) 36135 | 代理人： | 喻莎 |
| 地址： | 330046 江西省南昌市青山湖區高新技術*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 靈敏度 大面積 激光 超聲 成像 方法 | ||
1.一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于包括如下步驟：
S1：光源發射出脈沖或調制的準直光束，透過由高光學透過率的壓電材料制作的微透鏡陣列后，光束由微透鏡陣列的各個微透鏡陣元顯微聚焦，并照射在被測樣品上產生激光超聲信號；
S2：激光超聲信號由微透鏡陣列的各個微透鏡陣元以背向模式接收，經過信號預處理模塊后，各個微透鏡陣元接收的激光超聲信號的極值以行列尋址方式讀取并存儲進計算機；
S3：對各個微透鏡陣元接收的激光超聲信號極值直接投影成像，實現對被測樣品光學吸收差異的大面積、二維、快速激光超聲成像。
2.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述光源工作在紫外至紅外范圍內選擇的一個或多個波長。
3.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣列對光源發射的光束波長具有高透過率，基層底板選擇高光學透過率的壓電單晶或壓電復合材料。
4.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣元鍍有電極，電極材料選擇高光學透過率的摻錫氧化銦薄膜材料。
5.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣元選擇平凸或圓形結構。
6.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣列選擇平板式結構以及可鍍有特定光譜區域的光學增透膜。
7.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣元選擇采用相同的形狀、尺寸和光學焦距。
8.根據權利要求1所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述微透鏡陣元組成的大面積陣列的排布方式選擇正方形排布。
9.根據權利要求3所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，基層底板上浮雕有微米級至厘米級尺寸的微透鏡陣元組成的大面積陣列。
10.根據權利要求9所述的一種高靈敏度大面積激光超聲成像方法，其特征在于：S1中，所述基層底板上除了微透鏡陣元以外的區域都鍍有高光學反射率的光學掩膜，防止光束穿過微透鏡陣元之間的空隙。
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