[發(fā)明專利]基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻裝置及方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911005430.1 | 申請日: | 2019-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN110829157A | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王小林;奚小明;楊保來;宋濤;張漢偉;史塵;王澤鋒;周樸;司磊;許曉軍;陳金寶 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍國防科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01S3/04 | 分類號: | H01S3/04;H01S3/067 |
| 代理公司: | 中國和平利用軍工技術(shù)協(xié)會專利中心 11215 | 代理人: | 劉光德;彭霜 |
| 地址: | 410073 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 流動 沸點 液體 光纖 激光 冷卻 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻裝置,包括底板和蓋板;底板的上表面設(shè)置有用于放置被灌封膠覆蓋的光纖激光器器件和低沸點液體的凹槽;底板的側(cè)面設(shè)置有低沸點液體入口和低沸點液體出口;低沸點液體入口和低沸點液體出口與凹槽連通;底板的側(cè)邊沿設(shè)置有光纖輸入輸出預(yù)留孔;蓋板與凹槽密封連接。本發(fā)明公開了一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻方法。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)光纖激光器器件各個發(fā)熱側(cè)面的多方位冷卻。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光纖激光器技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻裝置及方法。
背景技術(shù)
高功率光纖激光器在工藝制造、3D打印等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。近年來,隨著雙包層光纖制作工藝和高亮度半導(dǎo)體激光器的功率提升,單路高功率光纖激光輸出功率得到了飛速的發(fā)展,從21世紀初的100瓦提高到目前的20千瓦。由于高功率摻鐿光纖激光器的光效率一般在65%-85%,一臺1000瓦的光纖激光器,在摻雜光纖內(nèi)部有150-350瓦的熱量存在。
美國勞倫斯-利福摩爾實驗室研究人員Dawson等人指出,當(dāng)摻雜光纖內(nèi)部的熱累積到一定程度時,摻雜光纖會發(fā)生纖芯融化(參見Dawson J W,Messerly M J,Beach R J,et al.Analysis of the scalability of diffraction-limited fiber lasers andamplifiers to high average power[J].Opt.Express.2008,16:13240-13266.)。除了摻雜光纖的量子虧損外,由于模式不匹配導(dǎo)致的功率泄漏,也會使得非摻雜傳能光纖(后文簡稱傳能光纖)內(nèi)部熱量積累以至燒毀光纖;由于熔接損耗導(dǎo)致激光泄漏,熔點(包括摻雜光纖與摻雜光纖之間、摻雜光纖與傳能光纖之間、傳能光纖與傳能光纖之間的熔點)熱量的急劇累積也會導(dǎo)致光纖燒毀。因此,光纖內(nèi)部的熱效應(yīng)是阻礙光纖激光功率提升的限制因素。為了提高光纖激光輸出功率,必須采用有效的措施對光纖激光進行冷卻。
當(dāng)前,為了解決高功率光纖激光器的制冷,主要有兩類方法。一類是將增益光纖放置在特定設(shè)計的制冷裝置中,通過熱傳導(dǎo)將增益光纖的熱量傳導(dǎo)到冷卻裝置,然后由冷卻裝置內(nèi)部的液體冷卻回路導(dǎo)走,該類冷卻方法只能對光纖的部分表面進行直接接觸和傳導(dǎo)冷卻,冷卻效率不是非常高;另一類是將增益光纖全部直接浸泡在水中,該類方法中,由于水中氫氧根離子直接與增益光纖接觸,隨著時間的增加,會導(dǎo)致光纖損耗增加,影響激光器輸出功率和穩(wěn)定性。此外,上述兩類制冷方法中,大都只強調(diào)增益光纖本身的制冷,對于光纖光柵、包層光濾除器、合束器等其他高功率器的制冷,要么涉及不多,要么只能是單面?zhèn)鲗?dǎo)冷卻;實際上,激光器中除了增益光纖以外,各個光纖器件和光纖之間的熔接點,都可能發(fā)熱且影響激光器的穩(wěn)定性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的之一,在于提供一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻裝置,該裝置能夠?qū)崿F(xiàn)光纖激光器器件各個發(fā)熱側(cè)面的多方位冷卻。
本發(fā)明的目的之二,在于提供一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻方法。
為了達到上述目的之一,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種基于流動低沸點液體的光纖激光冷卻裝置,所述光纖激光冷卻裝置包括底板1和蓋板2;
所述底板1的上表面設(shè)置有用于放置被灌封膠1-8覆蓋的光纖激光器器件和低沸點液體1-9的凹槽1-2;所述底板1的側(cè)面設(shè)置有低沸點液體入口5和低沸點液體出口6;所述低沸點液體入口5和低沸點液體出口6與所述凹槽1-2連通;所述底板1的側(cè)邊沿設(shè)置有光纖輸入輸出預(yù)留孔1-10;
所述蓋板2與所述凹槽1-2密封連接。
進一步的,所述底板1的底部設(shè)置有冷卻水流動的密封空間;所述底板1上設(shè)置有底板冷卻水入口3和底板冷卻水出口4;
所述底板冷卻水入口3和底板冷卻水出口4與所述密封空間連通。
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