[發明專利]一種復合材料缺陷的深度預測方法

在審

• 申請號: 201911005167.6
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN110880170A
• 公開（公告）日: 2020-03-13
• 發明（設計）人: 高斌;汪美伶
• 申請（專利權）人: 四川沐迪圣科技有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/543
• 代理公司: 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220
• 代理人: 溫利平

1.一種復合材料缺陷的深度預測方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)、對被測試件進行熱激勵，采集被測試件的紅外熱圖像序列；

(2)、利用矩陣稀疏分解算法對紅外熱圖像序列進行缺陷定性分析，從而確定出所有缺陷區域；

(3)、提取不同深度缺陷的熱對比特征時間

(3.1)、在每一個缺陷區域內選取中心區域內的多個像素點，再提取每個像素點的溫度隨時間變化的曲線，記為該深度缺陷下的時間-溫度曲線i＝1,2,…,k，k表示選取的像素點個個數，j＝1,2,…,N，N表示缺陷區域的個數；以及在該缺陷區域周圍選取一個非缺陷區域的像素點，并提取該像素點的溫度隨時間變化的曲線，記為標準的時間-溫度曲線T_j；

(3.2)、將每一個深度缺陷下的時間-溫度曲線與標準的時間-溫度曲線作差，得到每一個深度缺陷下對應的熱對比曲線即

(3.3)、將每一個深度缺陷下的所有峰值所對應的時間求均值，得到每一個深度缺陷下的特征時間τ_j；

(3.4)、將所有深度缺陷下的特征時間τ_j組成特征時間序列τ_mj；

(4)、預測缺陷深度

(4.1)、利用高斯分布對非線性因素進行建模

建立修正特征時間值τ_mj'＝τ_mj+ε_j，ε_j為不同深度缺陷下的不確定性變量；

建立高斯變換的數學模型：其中，1≤j≤N，rank(τ_mj)表示τ_mj的大小次序，Φ^-1是累積分布函數的反函數；

其中，Φ^-1滿足：其中，

(4.2)、選取不同的標準差σ，建立τ_mj與缺陷深度d_j之間的關系；

其中，表示τ_mj與d_j之間擬合的線性映射矩陣，T表示轉置；

(4.3)、將選取的不同的σ值代入到步驟(4.2)所示的關系式中，分別計算出不同的缺陷深度d_j，再根據公式計算誤差error_j，最后選取最小值error_j對應的σ作為最終的標準差，；

(4.4)、根據最終的σ值修正τ_mj，得到修正后的特征時間值τ_mj'；

(4.5)、建立τ_mj'與缺陷深度d_j之間的關系，進而預測出不同的缺陷深度；