[發明專利]一種高致密氧化鋁/MAX相復合材料及其原位合成方法

在審

• 申請號: 201911003463.2
• 申請日: 2019-10-22
• 公開（公告）號: CN110642609A
• 公開（公告）日: 2020-01-03
• 發明（設計）人: 王緒業;王志;李慶剛;史國普;吳俊彥;吳昊
• 申請（專利權）人: 濟南大學
• 主分類號: C04B35/10
• 分類號: C04B35/10;C04B35/56;C04B35/65
• 代理公司: 37218 濟南泉城專利商標事務所
• 代理人: 李桂存

1.一種高致密氧化鋁/MAX相復合材料，其特征在于，所述的M為Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Sc、Cr、Mo；A為Si、Al、Ge、Sn、Pb、P、S、Ga、As、Cd、In、Tl中的一種；X為C、N。

2.根據權利要求1所述的一種高致密氧化鋁/MAX相復合材料，其特征在于，原料包括：M粉、A粉、A1粉和X粉或者M、A、A1、X組成的化合物和氧化鋁粉；所述的A、A1取自Si、Al、Ge、Sn、Pb、P、S、Ca、As、Cd、In、Tl中的兩種。

3.權利要求1所述的高致密氧化鋁/MAX相復合材料的原位合成方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）混合：將M粉、A1粉、A粉、X粉或者含有M、A1、A、X元素的化合物與氧化鋁粉混合，加入酒精，球磨，干燥，過篩；

（2）燒結：在1200 ℃-1600 ℃的條件下燒結，保溫0.5-4 h，升溫速率為5-20 ℃/min，得到樣品。

4. 根據權利要求3所述的原位合成方法，其特征在于，所述的步驟（1）中M粉的粒徑為1-5 μm；X粉的粒徑為6000-8000目；A粉的粒徑為1~5 μm；A1粉的粒徑為1~20 μm；含有M、A1、A、X元素的化合物的粒徑1-5 μm；氧化鋁的粒徑為0.3-0.7 μm，純度均為99.9 %。

5.根據權利要求3所述的原位合成方法，其特征在于，所述的步驟（1）中氧化鋁與MAX相的體積比為8-2:2-8。

6.根據權利要求3所述的原位合成方法，其特征在于，所述的步驟（1）中若為M₃AX₂相，則M粉：X粉：A粉:A1粉的摩爾比為21-12:14-8:7-4:3-1；若為M₂AX₁相，則M粉：X粉：A粉:A1粉的摩爾比為14-8:7-4:7-4:3-1；若為M₄AX₃相，則M粉：X粉：A粉:A1粉的摩爾比為28-16:21-12:7-4:3-1。

7.采用權利要求3所述的原位合成方法制備的高致密氧化鋁/MAX相復合材料。