[發明專利]一種TEM樣品以及制備TEM樣品的方法有效
| 申請號： | 201911001966.6 | 申請日： | 2019-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN110554063B | 公開（公告）日： | 2021-10-12 |
| 發明（設計）人： | 鄒錠 | 申請（專利權）人： | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號： | G01N23/04 | 分類號： | G01N23/04;G01N1/28;G01N23/20008 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 楊華 |
| 地址： | 430074 湖北省武漢市洪山區東*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 tem 樣品 以及 制備 方法 | ||
1.一種制備TEM樣品的方法，其特征在于，包括：
在待制備樣品上形成保護層；
沿所述保護層的兩側向所述待制備樣品的中間部分減薄，并在其中一側減薄至預設條件時，逐步縮小加工區域，以通過在墩子和薄區之間保留階梯狀的過渡區域來形成厚度均勻的薄區；
其中，所述墩子位于所述薄區的兩端，所述過渡區域的階梯狀部分位于所述薄區的減薄一側。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述預設條件包括：所述保護層的中間區域出現凹陷。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，判斷所述保護層的中間區域是否出現凹陷包括：
判斷所述薄區的厚度是否達到預設厚度；
若是，逐步縮小加工區域。
4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，當所述待制備樣品為三維存儲器時，所述預設厚度的范圍為150nm～250nm。
5.一種TEM樣品，其特征在于，應用權利要求1至4任一項所述的方法制備而成，包括：
薄區和墩子，所述墩子位于所述薄區的兩端，所述薄區與所述墩子之間具有階梯狀的過渡區域；
其中，所述過渡區域的階梯狀的部分位于所述薄區的減薄一側，并且，在減薄方向上，所述階梯狀部分的寬度逐步增大。
6.一種制備TEM樣品的方法，其特征在于，包括：
在待制備樣品上形成保護層；
沿所述保護層的兩側向所述待制備樣品的中間部分減薄，并在每一側減薄至預設條件時，逐步縮小加工區域，以通過在墩子和薄區之間保留階梯狀的過渡區域來形成厚度均勻的薄區；
其中，所述墩子位于所述薄區的兩端，所述過渡區域的階梯狀部分位于所述薄區的減薄兩側。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述預設條件包括：所述保護層的中間區域出現凹陷。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，判斷所述保護層的中間區域是否出現凹陷包括：
判斷所述薄區的厚度是否達到預設厚度；
若是，逐步縮小加工區域。
9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，當所述待制備樣品為三維存儲器時，所述預設厚度的范圍為150nm～250nm。
10.一種TEM樣品，其特征在于，應用權利要求6至9任一項所述的方法制備而成，包括：
薄區和墩子，所述墩子位于所述薄區的兩端，所述薄區與所述墩子之間具有階梯狀的過渡區域；
其中，所述過渡區域的階梯狀部分位于所述薄區的減薄兩側，并且，在任一減薄方向上，所述階梯狀部分的寬度逐步增大。
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