[發(fā)明專利]一種自動(dòng)換樣裝置及中子反射實(shí)驗(yàn)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911001269.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110596161A | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖松文;朱濤;李樹發(fā);孫遠(yuǎn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 散裂中子源科學(xué)中心;中國科學(xué)院高能物理研究所;中國科學(xué)院物理研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N23/20 | 分類號(hào): | G01N23/20;G01N23/20025;G01N23/20016 |
| 代理公司: | 11332 北京品源專利代理有限公司 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 523800 廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)總部*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 樣品支持 反饋機(jī)構(gòu) 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 換樣裝置 中子反射 支撐架 讀取 方向設(shè)置 輻射區(qū)域 機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng) 實(shí)驗(yàn)效率 實(shí)驗(yàn)裝置 樣品安裝 樣品支撐 轉(zhuǎn)動(dòng)行程 地連接 可轉(zhuǎn)動(dòng) 束流 損傷 驅(qū)動(dòng) 停留 輻射 節(jié)約 配合 | ||
本發(fā)明公開了一種自動(dòng)換樣裝置及中子反射實(shí)驗(yàn)裝置,該自動(dòng)換樣裝置包括支撐架、樣品支持機(jī)構(gòu)、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和定位反饋機(jī)構(gòu)。樣品支持機(jī)構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接在支撐架上,樣品支持機(jī)構(gòu)沿其周向方向設(shè)置有多個(gè)樣品,驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)于樣品支持機(jī)構(gòu)和支撐架之間,驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)樣品支持機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng),定位反饋機(jī)構(gòu)設(shè)于樣品支持機(jī)構(gòu)上,定位反饋機(jī)構(gòu)能夠讀取樣品支撐機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)動(dòng)行程。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)和定位反饋機(jī)構(gòu)能互相配合使樣品依次完成中子反射實(shí)驗(yàn),在實(shí)驗(yàn)開始前將所有樣品安裝于樣品支持機(jī)構(gòu)上,自動(dòng)換樣裝置能完成所有樣品的中子反射實(shí)驗(yàn)。節(jié)約了寶貴的束流時(shí)間,減少了人員進(jìn)入輻射區(qū)域所停留的時(shí)間,降低了實(shí)驗(yàn)輻射對(duì)人員的損傷,提高了實(shí)驗(yàn)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及中子散射技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種自動(dòng)換樣裝置及中子反射實(shí)驗(yàn)裝置。
背景技術(shù)
中子反射技術(shù)是通過測量界面薄膜材料特別是磁性薄膜對(duì)中子的反射分析獲知界面處0.5~500nm尺度范圍內(nèi)的結(jié)構(gòu)成分及磁結(jié)構(gòu)等信息的先進(jìn)材料表征技術(shù)。由于磁性薄膜的厚度為納米級(jí)別,典型的中子反射實(shí)驗(yàn)技術(shù)中要求樣品的位置定位精度達(dá)到2um,角度定位精度達(dá)到0.001°。由于中子具有磁矩,是直接測量磁結(jié)構(gòu)的唯一手段。在中子反射譜儀中一般都會(huì)配備一臺(tái)電磁鐵,用于提供0-1特斯拉的可變的磁場環(huán)境,且在電磁鐵中心φ20×20mm區(qū)域的磁場均勻性要求好于2%,電磁鐵極柱之間的間隙一般只有50~100mm左右。在常溫中子反射實(shí)驗(yàn)當(dāng)中,薄膜樣品一般直接固定安裝在電磁鐵中心的無磁支架上。一次常溫中子反射實(shí)驗(yàn)時(shí)間一般為幾小時(shí)到十幾小時(shí),需要更換不同的樣品時(shí)則需要先關(guān)閉中子譜儀束流,實(shí)驗(yàn)人員打開屏蔽門并進(jìn)入樣品室對(duì)樣品進(jìn)行更換及校準(zhǔn),樣品更換完畢后,實(shí)驗(yàn)人員離開樣品室并關(guān)閉屏蔽門,打開中子譜儀束流繼續(xù)進(jìn)行樣品實(shí)驗(yàn)。
亟需設(shè)計(jì)一種可裝載多個(gè)樣品并可遠(yuǎn)程自動(dòng)換樣的裝置,以節(jié)約昂貴的中子束流時(shí)間,并盡量減少實(shí)驗(yàn)人員進(jìn)入輻射區(qū)域的停留時(shí)間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出一種自動(dòng)換樣裝置,能夠自動(dòng)將所有樣品依次轉(zhuǎn)動(dòng)至實(shí)驗(yàn)位置,節(jié)約實(shí)驗(yàn)過程中寶貴的束流時(shí)間,減少實(shí)驗(yàn)人員進(jìn)入輻射區(qū)域所停留的時(shí)間,降低實(shí)驗(yàn)過程中輻射對(duì)實(shí)驗(yàn)人員的損傷,提高實(shí)驗(yàn)效率及樣品位置精度。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出一種中子反射實(shí)驗(yàn)裝置,能夠自動(dòng)對(duì)裝置中的所有樣品依次進(jìn)行中子反射實(shí)驗(yàn),節(jié)省了實(shí)驗(yàn)過程中的寶貴束流時(shí)間,減少實(shí)驗(yàn)人員進(jìn)入輻射區(qū)域所停留的時(shí)間,降低實(shí)驗(yàn)過程中輻射對(duì)實(shí)驗(yàn)人員的損傷,提高實(shí)驗(yàn)效率及實(shí)驗(yàn)結(jié)果準(zhǔn)確性。
為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)效果,本發(fā)明的自動(dòng)換樣裝置的技術(shù)方案如下:
一種自動(dòng)換樣裝置,包括:支撐架;樣品支持機(jī)構(gòu),所述樣品支持機(jī)構(gòu)可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接在所述支撐架上,所述樣品支持機(jī)構(gòu)沿其周向方向設(shè)置有多個(gè)樣品;驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)于所述樣品支持機(jī)構(gòu)和所述支撐架之間,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)所述樣品支持機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng);定位反饋機(jī)構(gòu),所述定位反饋機(jī)構(gòu)設(shè)于所述樣品支持機(jī)構(gòu)上,所述定位反饋機(jī)構(gòu)能夠讀取所述樣品支撐機(jī)構(gòu)的轉(zhuǎn)動(dòng)行程。
在一些實(shí)施例中,所述定位反饋機(jī)構(gòu)包括:光柵,所述光柵連接在所述樣品支持機(jī)構(gòu)上;光柵讀數(shù)件,所述光柵讀數(shù)件設(shè)置于所述支撐架上,所述光柵讀數(shù)件能夠讀取所述光柵的轉(zhuǎn)動(dòng)角度。
在一些實(shí)施例中,所述樣品支持機(jī)構(gòu)包括:支持件,所述支持件的一端可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接在所述支撐架上;氣管,所述氣管為多個(gè);歧管塊,所述歧管塊設(shè)置于所述支持件的上表面,所述歧管塊一側(cè)與多個(gè)所述氣管密封相連,所述歧管塊另一側(cè)與真空泵相連;樣品座,所述樣品座為多個(gè),每個(gè)所述樣品座設(shè)有第二通孔,每個(gè)所述樣品座與所述歧管塊通過一個(gè)所述氣管密封相連,所述樣品座通過所述第二通孔吸附所述樣品。
在一些實(shí)施例中,所述支持件的周面上設(shè)有多個(gè)間隔分布的配合槽,所述樣品座通過安裝座連接在所述配合槽內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于散裂中子源科學(xué)中心;中國科學(xué)院高能物理研究所;中國科學(xué)院物理研究所,未經(jīng)散裂中子源科學(xué)中心;中國科學(xué)院高能物理研究所;中國科學(xué)院物理研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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