[發(fā)明專利]一種控制曝光機曝光的方法及裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911000412.4 | 申請日: | 2019-10-21 |
| 公開(公告)號: | CN110673448B | 公開(公告)日: | 2021-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王志沖;李付強;劉鵬;馮京;欒興龍;袁廣才;董學 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃麗 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 控制 曝光 方法 裝置 | ||
1.一種控制曝光機曝光的方法,其特征在于,包括:
接收待曝光圖層的信息,所述待曝光圖層包括相互間隔的顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域包括透光區(qū)域或發(fā)光區(qū)域中任一區(qū)域以及圖形區(qū)域;
確定曝光機上多個激光頭的分布信息,并基于所述分布信息將所述待曝光圖層劃分為與所述多個激光頭一一對應(yīng)的多個初始曝光區(qū)域;
判斷任意所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域之間的分界線與所述顯示區(qū)域是否交疊;
若交疊,則調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布,得到調(diào)整后的曝光區(qū)域,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線位于所述非顯示區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述分布信息將所述待曝光圖層劃分為與所述多個激光頭一一對應(yīng)的多個初始曝光區(qū)域,包括:
基于所述分布信息確定每個所述激光頭對應(yīng)的標定點;
確定所述每個激光頭對應(yīng)的標定點在所述待曝光圖層上所對應(yīng)的位置;
基于每個所述位置將所述待曝光圖層劃分為與所述多個激光頭一一對應(yīng)的多個初始曝光區(qū)域,其中,每個初始曝光區(qū)域包括一個所述位置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布,包括:
判斷與所述分界線交疊的區(qū)域是否為所述顯示區(qū)域中的圖形區(qū)域;
若是所述圖形區(qū)域,則判斷在與所述分界線非平行的方向上所述圖形區(qū)域是否連續(xù);
若連續(xù),則基于透光區(qū)域或發(fā)光區(qū)域調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線與所述透光區(qū)域或所述發(fā)光區(qū)域之間不交疊。
4.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,基于透光區(qū)域或發(fā)光區(qū)域調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布,包括:
確定所述透光區(qū)域或發(fā)光區(qū)域的位置,并基于所述透光區(qū)域或所述發(fā)光區(qū)域的位置調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的面積,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線與所述透光區(qū)域或所述發(fā)光區(qū)域之間不交疊。
5.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,若所述圖形區(qū)域在與所述分界線非平行的方向上不連續(xù),則確定與所述圖形區(qū)域相鄰的非圖形區(qū)域,調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域面積,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線落在所述非圖形區(qū)域內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述初始曝光區(qū)域為矩形區(qū)域。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的面積,包括:
調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的寬度;或
將所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的邊界進行曲折化處理,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線沿著所述透光區(qū)域、所述發(fā)光區(qū)域或所述圖形區(qū)域的分布走向。
8.如權(quán)利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
確定調(diào)整后的所述初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布信息,并基于所述區(qū)域分布信息生成控制指令;
基于所述控制指令進行曝光。
9.一種控制曝光機曝光的裝置,其特征在于,包括:
接收單元,用于接收待曝光圖層的信息,所述待曝光圖層包括多個顯示區(qū)域和相鄰的所述顯示區(qū)域之間的非顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域包括透光區(qū)域或發(fā)光區(qū)域中任一區(qū)域以及圖形區(qū)域;
劃分單元,用于確定曝光機上多個激光頭的分布信息,并基于所述分布信息將所述待曝光圖層劃分為與所述多個激光頭一一對應(yīng)的多個初始曝光區(qū)域;
判斷單元,用于判斷任意所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域之間的分界線與所述顯示區(qū)域是否交疊;
調(diào)整單元,用于若所述分界線與所述顯示 區(qū)域交疊,則調(diào)整所述相鄰兩個初始曝光區(qū)域的區(qū)域分布,得到調(diào)整后的曝光區(qū)域,以使得所述調(diào)整后的曝光區(qū)域的分界線位于所述非顯示區(qū)域。
10.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:
存儲器,用于存儲至少一個處理器所執(zhí)行的指令;
處理器,用于加載并執(zhí)行存儲器中存儲的指令,以實現(xiàn)如權(quán)利要求1-8任一項所述的方法。
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