[發(fā)明專利]化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910997233.6
• 申請日: 2019-10-20
• 公開（公告）號: CN110565073A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉國利;周毅;李國強(qiáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南玉豐真空科學(xué)技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：包括布?xì)夂小⑸蠈硬細(xì)夤堋⑾聦硬細(xì)夤埽霾細(xì)夂袨橛烧婵帐疑w板、布?xì)饪蛞约翱拷瑐?cè)的布?xì)獍褰M成的一個封閉盒體，所述上層布?xì)夤堋⑾聦硬細(xì)夤芫蛇M(jìn)氣管、方通管、導(dǎo)流管道組成，所述進(jìn)氣管穿過一側(cè)布?xì)饪蚺c設(shè)置在布?xì)夂袃?nèi)的方通管連通，所述導(dǎo)流管道均布在方通管相互平行的兩條管道之間，導(dǎo)流管道兩端與方通管連通，導(dǎo)流管道上均勻分布有多個布?xì)馕⒖祝蠈硬細(xì)夤艿膶?dǎo)流管道與下層布?xì)夤艿膶?dǎo)流管道交錯布置，在布?xì)獍迳戏植加卸鄠€噴氣嘴。

2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：所述導(dǎo)流管道設(shè)置在方通管與進(jìn)氣管連接的一側(cè)管道以及與該側(cè)管道平行的另一側(cè)管道之間。

3.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：所述導(dǎo)流管道的管徑小于方通管的管徑。

4.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：所述導(dǎo)流管道為圓管，導(dǎo)流管道上均勻分布有多組布?xì)馕⒖祝拷M布?xì)馕⒖子删鶆蚍植荚趯?dǎo)流管道圓周上的多個布?xì)馕⒖捉M成。

5.如權(quán)利要求1或4所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：上層布?xì)夤苌系牟細(xì)馕⒖着c下層布?xì)夤苌系牟細(xì)馕⒖捉诲e布置。

6.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：布?xì)獍迳蠂姎庾斓木济娣e大于基片的面積。

7.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：布?xì)獍迳纤膫€角區(qū)域的噴氣嘴較其他位置密集。

8.如權(quán)利要求1、6或7所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：所述噴氣嘴的進(jìn)氣端孔徑大于出氣端孔徑。

9.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備布?xì)庋b置，其特征在于：布?xì)獍迳线€設(shè)有蛇形分布的冷卻水道。