[發明專利]字庫生成方法、裝置、電子設備及存儲介質

在審

• 申請號: 201910984727.0
• 申請日: 2019-10-16
• 公開（公告）號: CN112669407A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 蔣建斌;連宙輝;肖建國;張純;宛慧軍;唐英敏
• 申請（專利權）人: 北京方正手跡數字技術有限公司;北京大學
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 朱穎;劉芳

1.一種字庫生成方法，其特征在于，包括：

獲取文字圖像集合，所述文字圖像集合包括至少一張文字圖像；

根據所述文字圖像集合確定第一參考字庫，所述第一參考字庫屬于預設參考字庫集合；

根據所述文字圖像集合中的文字圖像以及所述第一參考字庫確定目標筆畫軌跡數據，所述目標筆畫軌跡數據用于表征所述文字圖像的形狀特性；

根據所述目標筆畫軌跡數據以及預設處理算法確定目標文字圖像，以根據所述目標文字圖像生成目標字庫。

2.根據權利要求1所述的字庫生成方法，其特征在于，所述根據所述文字圖像集合確定第一參考字庫，包括：

根據所述文字圖像集合以及所述預設參考字庫集合確定對應的參考文字圖像集合；

根據所述參考文字圖像集合以及所述預設參考字庫集合確定參考筆畫骨架數據集合，所述預設參考字庫集合包括每個參考文字圖像與參考筆畫骨架數據之間的映射關系；

根據所述文字圖像集合以及所述參考筆畫骨架數據集合確定所述第一參考字庫。

3.根據權利要求2所述的字庫生成方法，其特征在于，所述根據所述文字圖像集合中的文字圖像以及所述第一參考字庫確定目標筆畫軌跡數據，包括：

根據所述文字圖像以及第一預設圖像處理算法確定骨架數據，所述骨架數據包括特征點集；

根據預設提取算法，將所述特征點集與所述參考筆畫骨架數據集合進行匹配，以確定筆畫軌跡數據；

根據所述筆畫軌跡數據以及預設過濾算法確定目標筆畫軌跡數據。

4.根據權利要求3所述的字庫生成方法，其特征在于，所述根據所述目標筆畫軌跡數據以及預設處理算法確定目標文字圖像，包括：

根據所述目標筆畫軌跡數據以及預設訓練模型確定目標筆畫風格數據，所述目標筆畫風格數據包括目標筆畫坐標數據以及目標筆畫重心數據；

根據所述目標筆畫軌跡數據確定目標筆畫細節數據，所述目標筆畫細節數據包括目標筆畫寬度數據以及目標筆畫端部輪廓特征數據；

根據所述目標筆畫軌跡數據以及所述第一參考字庫確定目標筆畫連筆概率數據；

根據所述目標筆畫風格數據以及所述第一參考字庫確定目標筆畫位置數據；

根據所述目標筆畫細節數據以及所述目標筆畫位置數據確定目標筆畫閉合輪廓路徑；

根據所述目標筆畫閉合輪廓路徑以及預設填充算法確定單一筆畫圖像；

根據所述單一筆畫圖像以及所述目標筆畫連筆概率數據確定目標筆畫圖像；

根據所述目標筆畫圖像以及預設疊加方式確定所述目標文字圖像。

5.根據權利要求4所述的字庫生成方法，其特征在于，所述根據所述目標文字圖像生成目標字庫，包括：

根據所述目標文字圖像以及第二預設圖像處理算法確定修正文字圖像；

基于預設矢量算法，根據所述修正文字圖像以及所述文字圖像集合生成目標字庫。

6.一種字庫生成裝置，其特征在于，包括：

獲取模塊，用于獲取文字圖像集合，所述文字圖像集合包括至少一張文字圖像；

第一處理模塊，用于根據所述文字圖像集合確定第一參考字庫，所述第一參考字庫屬于預設參考字庫集合；

第二處理模塊，用于根據所述文字圖像集合中的文字圖像以及所述第一參考字庫確定目標筆畫軌跡數據，所述目標筆畫軌跡數據用于表征所述文字圖像的形狀特性；

第三處理模塊，用于根據所述目標筆畫軌跡數據以及預設處理算法確定目標文字圖像，以根據所述目標文字圖像生成目標字庫。

7.根據權利要求6所述的字庫生成裝置，其特征在于，所述第一處理模塊，具體用于：

根據所述文字圖像集合以及所述預設參考字庫集合確定對應的參考文字圖像集合；

根據所述參考文字圖像集合以及所述預設參考字庫集合確定參考筆畫骨架數據集合，所述預設參考字庫集合包括每個參考文字圖像與參考筆畫骨架數據之間的映射關系；

根據所述文字圖像集合以及所述參考筆畫骨架數據集合確定所述第一參考字庫。