[發(fā)明專利]一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2 在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910979080.2 | 申請日: | 2019-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN112662982A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王鈾;賈近;張振國;王紫萱;張東興 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學 |
| 主分類號: | C23C4/134 | 分類號: | C23C4/134;C23C4/11 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 張金珠 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 適合 等離子 噴涂 納米 結(jié)構(gòu) yb base sub | ||
1.一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于所述制備方法是通過下述步驟實現(xiàn)的:
步驟一、將納米Yb2O3粉體和納米SiO2粉體按摩爾比為1:2.4混合后放入球磨機中,加入氧化鋯磨球和去離子水,球磨混勻,再加入大分子粘結(jié)劑,球磨制成漿料;
步驟二、然后經(jīng)過噴霧造粒形成了納米團聚體粉體;
步驟三、再在空氣中固相燒結(jié),破碎研磨;
步驟四、然后采用大氣等離子噴涂噴到去離子水中,靜置,去除上層液體,烘干,過篩,得到納米球形喂料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟一中,大分子粘結(jié)劑用量是Yb2O3粉體和SiO2粉體總質(zhì)量的0.3%。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于大分子粘結(jié)劑為聚乙烯醇。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟一中氧化鋯磨球直徑為10mm,氧化鋯磨球質(zhì)量是Yb2O3粉體和SiO2粉體總質(zhì)量的3倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟一中去離子水用量是Yb2O3粉體和SiO2粉體總質(zhì)量的2.5倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟二中噴霧造粒的工藝參數(shù):進風溫度為250℃,出風溫度為130℃,蠕動泵速度為45/3r/min~55/3r/min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟三所述固相燒結(jié)是以10℃/min速率升溫至1500℃,保溫4h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于等離子噴涂工藝參數(shù):電流為550A,電壓為55V,主氣流量為65SCFH,送粉速率為100g/min,噴涂速度為30mm/s。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟四中靜置至粉體全部沉淀。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適合等離子噴涂的納米結(jié)構(gòu)Yb2Si2O7球形喂料的制備方法,其特征在于步驟四中用150目的篩子過篩。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





