[發明專利]一種輻射計校準用光源系統在審
| 申請號: | 201910977230.6 | 申請日: | 2019-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN110657886A | 公開(公告)日: | 2020-01-07 |
| 發明(設計)人: | 李超辰;鄧玉強;孫青 | 申請(專利權)人: | 中國計量科學研究院 |
| 主分類號: | G01J1/08 | 分類號: | G01J1/08;G01J3/10;G01J5/08 |
| 代理公司: | 11021 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 李佳 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輻射光源 輻射計 光輻射 校準 導光 反射 調節器 輻照 高色溫 內臂 內殼 輻射式熱流計 輻射傳感器 準確度 背景輻射 反射內壁 輻射光場 光源系統 結構外殼 均勻輻照 均勻性好 開關擋板 冷媒冷卻 冷卻管路 總輻射表 輻射 輻射熱 輻照場 輻照度 高輻照 高能效 后法蘭 均勻化 連接件 前法蘭 全光譜 標定 導出 光譜 量限 外臂 照度 會聚 拓展 | ||
一種輻射計校準用光源系統,用于輻射熱計、輻射式熱流計、總輻射表、全光譜輻射計、輻射傳感器等在高色溫高輻照度條件下的標定和校準,包括:輻射光源、輻射光源連接件、反射內殼、結構外殼、后法蘭、前法蘭、輻射調節器、導光內臂、導光外臂、開關擋板和冷卻管路。輻射光源發出光輻射,通過反射內壁收集輻射光源發出的光輻射,向前會聚輻出;通過導光內臂將光輻射導出并使輻射光場空間均勻化,通過輻照調節器調節輻照度和輻照光譜;在反射內殼、反射外殼之間留有間隙,通過冷媒冷卻。本發明可提供高色溫下50kW/m2以上的均勻輻照場,具有輻射照度高、輻照場均勻性好、高能效和無背景輻射干擾等優點,可拓展輻射計校準量限并提高準確度。
技術領域
本發明涉及光輻射計量技術領域,尤其涉及一種輻射計校準用光源系統,用于輻射熱計、輻射式熱流計、總輻射表、全光譜輻射計、輻射傳感器等輻射計的標定校準。
背景技術
輻射計是用來測量輻射度的測量儀器,包括輻射熱計、輻射式熱流計、總輻射表、全光譜輻射計、輻射傳感器等。在勞動衛生、高溫作業、采暖通風、太陽發電、采礦冶金、航空航天、氣象觀測、地球輻射平衡監測等領域應用廣泛。為保障輻射計的量值準確可靠,需對輻射計進行計量校準。
輻射計校準用光源的光譜、輻照度、輻照場空間均勻性和背景輻射,是影響計量校準結果的重要因素。為使計量校準結果準確可靠,校準用光源應當具有以下特性:1.接近輻射計實際使用場景的光譜;2.達到或超越輻射計實際使用場景的輻照度;3.良好的空間均勻性;4.盡量小的背景輻射干擾。從而避免由輻射計自身的光譜吸收帶寬、線性、空間復位精度和背景輻射干擾引起的校準誤差。
傳統的輻射計校準用光源,主要包括激光、黑體爐、標準燈、太陽模擬器、石墨、電熱絲等。各輻射計校準用光源在光譜、輻照度、空間均勻性、背景輻射干擾方面的特性如圖1所示,圖1為傳統輻射計校準用光源特性比較的示意圖。激光輻照度大,準直性好,但是波段窄、輻射面積較小且輻射光場不均勻;黑體輻射源波段寬,但色溫偏低,主要用于紅外測溫等方面;光強標準燈色溫一般在2000K左右,光輻射場向四周空間發散,均勻性一般,輻照度較小;太陽模擬器具有良好的準直性與均勻性,但輻照度約1kW/m2,且難以提升,譜線在紅外區與黑體輻射曲線相差大,一般只適用于校準響應光譜小于3000nm的太陽輻射表或標準太陽電池;石墨與電熱絲輻照度大,但在空氣中使用時易氧化,一般在低色溫下工作,且使用時易產生強烈的背景輻射干擾,影響校準結果的準確度。
近年在航空、航天、冶金和消防等領域,高色溫條件下的高輻照度輻射計計量需求日益增長。然而,目前傳統的輻射計校準用光源普遍采用光強標準燈校準,光譜輻照度低,光場均勻性一般,難以同時滿足高輻照度和高空間均勻性的要求,限制了輻射計的校準量程上限和校準結果的不確定度,對輻射計在高色溫高輻照場景使用時的量值準確造成阻礙。
發明內容
(一)要解決的技術問題
有鑒于此,本發明的主要目的在于提供一種輻射計校準用光源系統,以滿足高輻照度和高空間均勻性的要求,使被校輻射計能夠準確應用于高色溫高輻照場景,提高校準準確度。
(二)技術方案
為達到上述目的,本發明提供了一種輻射計校準用光源系統,包括:
一輻射光源110,用于產生光輻射和熱輻射;
一輻射光源連接件120,連接于所述輻射光源110,用于為所述輻射光源110提供機械支撐,并提供熱隔絕或冷卻;
一電源130,連接于所述輻射光源110,用于給所述輻射光源110供電;
一反射內殼210,具有前開口、后開口和內壁,所述前開口作為光輻射出口,所述后開口用于放置所述輻射光源110,所述內壁為拋光反射面,用于將所述輻射光源110產生的輻射向前端會聚輻出;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國計量科學研究院,未經中國計量科學研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910977230.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





