[發(fā)明專利]一種鐵電薄膜的周期性條帶疇結(jié)構(gòu)的表征方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910977182.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110634871B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翟俊杰;李忠文;南峰;李冠男;周舟;黃煜焱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 淮陰工學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01L27/11507 | 分類號(hào): | H01L27/11507 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 張華蒙 |
| 地址: | 223005 江蘇省淮安市洪澤區(qū)東七街三號(hào)高*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 周期性 條帶 結(jié)構(gòu) 表征 方法 | ||
1.一種鐵電薄膜的周期性條帶疇結(jié)構(gòu)的表征方法,其特征在于:包括如下步驟:
S1:使用PLD方法制備BFO薄膜;所述的PLD方法,沉積溫度為700℃,氧壓為100mTorr;沉積完畢后,氧壓升高為760Torr,然后以5℃/min降至室溫;
S2:物相表征研究BFO薄膜的晶相、形貌和鐵電性;所述的物相表征的方法是,在條帶疇所在區(qū)域的形貌表征采用基于SPM的原子力顯微鏡,針尖驅(qū)動(dòng)頻率為76KHz;形貌為尖峰狀的周期性條帶是存在109°條帶疇的形貌表征目標(biāo)區(qū)域;
S3:運(yùn)用矢量壓電力顯微鏡PFM對(duì)BFO薄膜表征,分析獲得鐵電條帶疇的疇結(jié)構(gòu);所述的表征的方法是使用矢量PFM技術(shù),面外PFM針尖驅(qū)動(dòng)頻率為300~400KHz,面內(nèi)PFM針尖驅(qū)動(dòng)頻率為1.0~1.2MHz;在所述的PFM針尖設(shè)有導(dǎo)電涂層,所述的導(dǎo)電涂層為Pt/Ir;矢量PFM技術(shù)的具體方法是:第一步表征薄膜的初始狀態(tài)極化分布,第二步表征薄膜的寫入狀態(tài)極化分布,第三步表征樣品順時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°后的極化分布,第四步分析表征結(jié)果確定條帶疇的疇結(jié)構(gòu);
S4:采用導(dǎo)電原子力顯微鏡CAFM對(duì)BFO薄膜表征,獲得鐵電條帶疇的疇壁導(dǎo)電,具體為:先使用AFM和矢量PFM表征確認(rèn)條帶疇的疇壁位置,然后使用CAFM表征疇壁電流;CAFM施加的電壓低于樣品的矯頑電壓,CAFM針尖設(shè)有導(dǎo)電涂層Pt/Ir。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐵電薄膜的周期性條帶疇結(jié)構(gòu)的表征方法,其特征在于:步驟S1中,所述的PLD方法,在襯底上依次沉積底電極、鐵電層;所述的襯底為DyScO3,晶向?yàn)?110);所述的底電極為SrRuO3,厚度為4nm;所述的鐵電層為BFO,厚度為100nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鐵電薄膜的周期性條帶疇結(jié)構(gòu)的表征方法,其特征在于:所述的步驟S3中,找到至少包含兩種斜切角的3-4μm2范圍區(qū)域并使用PFM方法掃描,微調(diào)樣品放置方向使PFM圖像中周期性條帶疇與面內(nèi)垂直方向成45°夾角,并預(yù)先使用PFM針尖電壓在兩個(gè)斜切角的交界處將條帶疇的局部進(jìn)行極化。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種鐵電薄膜的周期性條帶疇結(jié)構(gòu)的表征方法,其特征在于:步驟S3中,在所述的矢量PFM表征薄膜的寫入狀態(tài)極化分布,是預(yù)先使用PFM針尖偏壓在局域?qū)l帶疇的極化翻轉(zhuǎn),局域極化分兩種情形,第一種是在兩個(gè)斜切角的交界處,第二種是在同一斜切角的內(nèi)部,這兩種情形都在3-4μm2范圍內(nèi);第二種情形在寫入前順時(shí)針旋轉(zhuǎn)樣品10°,寫入后再逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)樣品10°進(jìn)行下一步表征。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于淮陰工學(xué)院,未經(jīng)淮陰工學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910977182.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺(tái)結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機(jī)械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





