[發(fā)明專利]一種靜態(tài)磁場控制方法和磁共振成像裝置

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201910976300.6
• 申請日: 2019-10-15
• 公開（公告）號: CN110646755A
• 公開（公告）日: 2020-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐春明;毛青
• 申請（專利權(quán)）人: 山東朗潤醫(yī)療系統(tǒng)有限公司
• 主分類號: G01R33/381
• 分類號: G01R33/381;G01R33/387;G01R33/42;A61B5/055
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本發(fā)明涉及磁共振成像技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種磁共振成像裝置，包括磁共振主體、主磁場裝置、射頻線圈、接收裝置及移動床，磁共振主體內(nèi)部設(shè)置滑動主體，滑動主體左側(cè)壁面與磁共振主體內(nèi)部左側(cè)壁面固定連接，磁共振主體內(nèi)部上下側(cè)面分別固定安裝主磁場裝置，磁共振主體內(nèi)部設(shè)置兩個補償線圈，本發(fā)明，通過在移動床上固定安裝電磁層和設(shè)置有拉力柱，磁共振裝置開啟，補償線圈產(chǎn)生磁力，吸引電磁層靠近從而帶動移動床向磁共振裝置主體內(nèi)部移動將患者帶入檢測裝置中，避免了使用電機等電氣設(shè)備帶動患者移動，解決了使用電氣設(shè)備時電流通過會產(chǎn)生微弱的電磁場，可能會影響到磁共振裝置中的靜態(tài)磁場，使磁共振成像裝置掃描出的圖像有誤差的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁共振成像技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種靜態(tài)磁場控制方法和磁共振成像裝置。

背景技術(shù)

核磁共振成像又稱自旋成像，也稱磁共振成像，中國臺灣又稱磁振造影，香港又稱磁力共振成像，是利用核磁共振原理，依據(jù)所釋放的能量在物質(zhì)內(nèi)部不同結(jié)構(gòu)環(huán)境中不同的衰減，通過外加梯度磁場檢測所發(fā)射出的電磁波，即可得知構(gòu)成這一物體原子核的位置和種類，據(jù)此可以繪制成物體內(nèi)部的結(jié)構(gòu)圖像，將這種技術(shù)用于人體內(nèi)部結(jié)構(gòu)的成像，就產(chǎn)生出一種革命性的醫(yī)學(xué)診斷工具。快速變化的梯度磁場的應(yīng)用，大大加快了核磁共振成像的速度，使該技術(shù)在臨床診斷、科學(xué)研究的應(yīng)用成為現(xiàn)實，極大地推動了醫(yī)學(xué)、神經(jīng)生理學(xué)和認(rèn)知神經(jīng)科學(xué)的迅速發(fā)展。目前磁共振成像裝置在使用時可以帶動患者進入檢測裝置內(nèi)的移動床都是使用電機驅(qū)動的，磁共振裝置在使用時會產(chǎn)生高強度的磁場，電機等電氣設(shè)備在高強度磁場中容易出現(xiàn)磁化和被磁場影響從而導(dǎo)致電機需要經(jīng)常進行檢測維修，同是使用電機等電氣設(shè)備電流通過會產(chǎn)生微弱的電磁場，可能會影響到磁共振裝置中的靜態(tài)磁場，使磁共振成像裝置掃描出的圖像有誤差。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種靜態(tài)磁場控制方法和磁共振成像裝置，具備不使用任何電氣設(shè)備等優(yōu)點，解決了使用電氣設(shè)備時電流通過會產(chǎn)生微弱的電磁場，可能會影響到磁共振裝置中的靜態(tài)磁場，使磁共振成像裝置掃描出的圖像有誤差的問題。

(二)技術(shù)方案

為實現(xiàn)上述不使用任何電氣設(shè)備的目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種磁共振成像裝置，包括磁共振主體、主磁場裝置、射頻線圈、接收裝置及移動床，磁共振主體是一個空心圓柱，磁共振主體右側(cè)壁面開設(shè)檢測入口，磁共振主體內(nèi)部設(shè)置滑動主體，滑動主體是一個長方體，滑動主體左側(cè)壁面與磁共振主體內(nèi)部左側(cè)壁面固定連接，滑動主體右端通過檢測入口伸出磁共振主體，磁共振主體內(nèi)部上下側(cè)面分別固定安裝主磁場裝置，磁共振裝置內(nèi)部設(shè)置射頻線圈，射頻線圈前后壁面分別與磁共振主體內(nèi)部側(cè)面固定連接，射頻線圈位于滑動主體上方，磁共振主體內(nèi)側(cè)設(shè)置接收線圈，滑動主體下方壁面固定安裝接收裝置，磁共振主體內(nèi)部設(shè)置兩個補償線圈，補償線圈是圓環(huán)型電磁線圈，兩個補償線圈左右對應(yīng)，且兩個補償線圈位于上下兩個主磁場裝置中間，滑動主體位于兩個補償線圈內(nèi)側(cè)，補償線圈側(cè)面分別與磁共振主體內(nèi)側(cè)前后壁面固定連接，磁共振主體內(nèi)部固定安裝過線管，過線管外部后方壁面與磁共振主體內(nèi)部后方壁面固定連接，過線管右側(cè)端口穿過磁共振主體左側(cè)壁面；

滑動主體上方壁面開設(shè)有兩個滑槽，滑槽是長方形槽，兩條滑槽前后對應(yīng)，滑動主體上方設(shè)置移動床，移動床下方壁面固定安裝四個固定柱，四個固定柱下方分別活動安裝滾輪，四個滾輪分別活動卡合在兩條滑槽內(nèi)側(cè)，移動床前后左側(cè)面均固定安裝電磁層，右側(cè)前后兩個固定柱右側(cè)壁面分別固定安裝拉力柱，兩個拉力柱分別位于前后兩個滑槽內(nèi)側(cè)，兩個拉力柱右側(cè)壁面分別與兩個滑槽內(nèi)部右側(cè)壁面固定連接，滑動主體下方壁面固定安裝支腳，支腳是一個長方體，支腳位于磁共振主體右側(cè)；

磁共振主體側(cè)面及左側(cè)壁面內(nèi)部固定安裝冷卻水管，磁共振主體左側(cè)壁面固定安裝進水管，且進水管與冷卻水管連通。

一種靜態(tài)磁場控制方法，包括：S1：設(shè)置電磁線圈，設(shè)置對應(yīng)的兩個電磁線圈，電磁線線圈是由導(dǎo)線纏繞形成；