[發明專利]一種可調節的微孔薄膜沉積裝置及使用方法

在審

• 申請號: 201910975932.0
• 申請日: 2019-10-15
• 公開（公告）號: CN110777367A
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發明（設計）人: 王曉明;魏鳳杰
• 申請（專利權）人: 江蘇卓高新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/455;H01M2/14;H01M2/16;C23C16/40
• 代理公司: 32261 蘇州潤桐嘉業知識產權代理有限公司
• 代理人: 吳筱娟

1.一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，包括：

外筒體；

內筒體，所述內筒體設置在所述外筒體內，所述內筒體與所外筒體之間形成有反應空間，所述薄膜穿過所述反應空間繞所述內筒體一周，所述內筒體具有：

若干通氣孔，所述通氣孔均勻分布在所內筒體的側壁上；

中心軸，所述中心軸設置在所述內筒體的中心；

隔板，所述隔板安裝在所述中心軸外周，所述隔板用于將內筒體和中心軸之間的空間等分為若干通氣區域，所述若干通氣區域包括若干第一通氣區域、若干第二通氣區域和若干第三通氣區域，所述第一通氣區域和所述第二通氣區域交替設置，所述第三通氣區域設置在任意一組第一通氣區域和第二通氣區域之間，所述隔板與所述中心軸滑動連接。

2.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述外筒體包括：

入口，所述入口設置在所述外筒體的側壁上；

出口，所述出口設置在所述外筒體的側壁上，所述出口與所述入口相鄰設置。

3.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述薄膜與所述內筒體之間的距離為0.2-2cm。

4.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述內筒體還包括：

頸部；

蓋體，所述蓋體設置在所述頸部上端，所述蓋體上設置有若干通孔，所述通孔與所述通氣區域一一對應；

若干通氣管，所述通氣管插裝在所述通孔內。

5.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述中心軸為中空結構，所述隔板上下兩端設置有卡槽，所述卡槽扣在所述中心軸的筒壁上。

6.根據權利要求5所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述中心軸的筒壁上設置有若干擋塊，所述擋塊分散在所述隔板之間。

7.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述沉積裝置還包括：

若干吸氣管，所述吸氣管設置在所為外筒體的外周，所述吸氣管均勻分布。

8.根據權利要求7所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述吸氣管連接吸氣泵。

9.根據權利要求1所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置，其中，所述沉積裝置還包括：紅外線加熱裝置，所述紅外線加熱裝置設置在所述中心軸上。

10.一種可調節的微孔薄膜沉積裝置的使用方法，包括以下步驟：

穿入薄膜，將所述薄膜從外筒體側壁上的入口穿入，使所述薄膜穿過所述反應空間，繞所述內筒體一周后，從所述外筒體側壁上的出口穿出；

滑動隔板，調整各通氣區域的間距；

通氣，向所述第一通氣區域通入第一反應氣體，向所述第二通氣區域通入第二反應氣體，向所述第三區域通入非反應氣體；

ALD循環，所述薄膜在所述反應空間內移動，使所述薄膜表面的任一部分均可以通過多次所述第一反應氣體沉積、所述非反應氣體吹掃、所述第二反應氣體反應及所述非反應氣體再吹掃的來形成具有規定厚度的沉積層，完成ALD循環。

11.根據權利要求10所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置的使用方法，其中，所述金屬化合物蒸汽包括選自鋁、鈣、鎂、硅、鈦及鋯中的至少一個金屬的金屬化合物。

12.根據權利要求11所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置的使用方法，其中，所述金屬化合物蒸汽為三甲基鋁(TMA)。

13.根據權利要求10所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置的使用方法，其中，所述第二反應氣體為非金屬化合物蒸汽。

14.根據權利要求13所述的一種可調節的微孔薄膜沉積裝置的使用方法，其中，所述第二反應氣體為水蒸氣。