[發明專利]殼體及其制備方法和電子設備

在審

• 申請號: 201910975795.0
• 申請日: 2019-10-14
• 公開（公告）號: CN110784565A
• 公開（公告）日: 2020-02-11
• 發明（設計）人: 晏剛;楊光明;侯體波
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H04M1/02
• 分類號: H04M1/02
• 代理公司: 44224 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 方宇

1.一種殼體，其特征在于，包括：

基底，具有第一表面，所述第一表面上具有圖案區域；

氮化鉻層，設置在所述第一表面上，并覆蓋至少部分所述圖案區域；及

鉻層，設置在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側。

2.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述鉻層與所述氮化鉻層完全重合地重疊在一起。

3.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述基底在所述圖案區域處的材料為陶瓷。

4.根據權利要求3所述的殼體，其特征在于，所述基底為陶瓷基底。

5.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述氮化鉻層的厚度為1nm～100nm，所述鉻層的厚度為1nm～150nm。

6.根據權利要求1～5任一項所述的殼體，其特征在于，還包括保護膜，所述保護膜設置在所述第一表面上，且覆蓋所述鉻層。

7.根據權利要求6所述的殼體，其特征在于，所述保護膜為防指紋膜。

8.一種殼體的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

提供基底，所述基底具有第一表面，所述第一表面上具有圖案區域；

在所述第一表面上形成氮化鉻層，且所述氮化鉻層覆蓋至少部分所述圖案區域；及

在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側形成鉻層，得到殼體。

9.根據權利要求8所述的殼體的制備方法，其特征在于，所述在所述第一表面上形成氮化鉻層，且所述氮化鉻層覆蓋至少部分所述圖案區域的步驟包括：

在所述基底的部分區域印刷油墨，所述油墨圍繞所述圖案區域，固化，形成油墨層；及

對所述基底進行鍍膜處理，以形成所述氮化鉻層。

10.根據權利要求9所述的殼體的制備方法，其特征在于，對所述基底進行鍍膜處理，以形成所述氮化鉻層的步驟中，鍍膜方式為磁控濺射，靶材為鉻，真空度為3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，氣體氛圍為氬氣和氮氣的混合氣體，所述氬氣的流量為100SCCM～300SCCM，所述氮氣的流量為100SCCM～350SCCM。

11.根據權利要求9所述的殼體的制備方法，其特征在于，所述在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側形成鉻層的步驟包括：

對形成有所述氮化鉻層的所述基底進行鍍膜處理，以在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側形成所述鉻層；及

去除所述油墨層。

12.根據權利要求11所述的殼體的制備方法，其特征在于，對形成有所述氮化鉻層的所述基底進行鍍膜處理，以在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側形成所述鉻層的步驟中，鍍膜方式為磁控濺射，靶材為鉻，真空度為3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，氣體氛圍為氬氣，所述氬氣的流量為200SCCM～400SCCM。

13.根據權利要求11所述的殼體的制備方法，其特征在于，所述油墨為水溶性油墨，去除所述油墨層的方式為水洗。

14.根據權利要求8～13任一項所述的殼體的制備方法，其特征在于，所述在所述第一表面上形成氮化鉻層，且所述氮化鉻層覆蓋至少部分所述圖案區域的步驟之前，還包括對所述基底依次進行清潔處理的步驟。

15.根據權利要求8～13任一項所述的殼體的制備方法，其特征在于，在所述氮化鉻層的遠離所述基底的一側形成鉻層的步驟之后，還包括如下步驟：在所述第一表面上形成保護膜，且所述保護膜覆蓋所述鉻層。