[發(fā)明專利]無焦點(diǎn)檢查裝置及檢查方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910974383.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111048432A | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李撰權(quán);全文營(yíng);許貞;洪德和;趙銀河 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社高永科技 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;G01B11/26 |
| 代理公司: | 北京青松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 鄭青松 |
| 地址: | 韓國(guó)首爾市衿川區(qū)加*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 焦點(diǎn) 檢查 裝置 方法 | ||
1.一種檢查裝置,其中,包括:
結(jié)構(gòu)光源,其依次照射具有一個(gè)相位范圍的多個(gè)結(jié)構(gòu)光;
至少一個(gè)透鏡,其針對(duì)所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光,分別調(diào)整與所述相位范圍中各個(gè)相位對(duì)應(yīng)的光的路徑,使得與所述相位范圍中的一個(gè)相位對(duì)應(yīng)的光到達(dá)對(duì)象體表面上一部分區(qū)域的各點(diǎn);
圖像傳感器,其捕獲所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光分別從所述一部分區(qū)域反射而生成的多個(gè)反射光;及
處理器,其與所述結(jié)構(gòu)光源、所述至少一個(gè)透鏡及所述圖像傳感器電氣連接;
所述處理器從所述圖像傳感器獲得關(guān)于所述多個(gè)反射光各自的光量值,
以關(guān)于所述多個(gè)反射光各自的光量值為基礎(chǔ),導(dǎo)出所述多個(gè)反射光的相位值,導(dǎo)出所述對(duì)象體表面相對(duì)于基準(zhǔn)面的角度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,還包括:
存儲(chǔ)器,其存儲(chǔ)顯示所述對(duì)象體表面的角度及所述多個(gè)反射光的相位值之間的關(guān)系的關(guān)聯(lián)信息,與所述處理器電氣連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢查裝置,其中,
所述處理器基于所述多個(gè)反射光的相位值及從所述存儲(chǔ)器獲得的所述關(guān)聯(lián)信息,導(dǎo)出所述對(duì)象體表面的角度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,
所述相位范圍并非所述結(jié)構(gòu)光的周期的整數(shù)倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的檢查裝置,其中,
所述相位范圍大于與所述結(jié)構(gòu)光的半周期相應(yīng)的相位范圍,小于與所述結(jié)構(gòu)光的一個(gè)周期相應(yīng)的相位范圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,
還包括:第一光束分離器,其位于與所述基準(zhǔn)面垂直的第一軸上,調(diào)整路徑而使得從所述結(jié)構(gòu)光源照射的所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光分別朝向所述對(duì)象體表面;
所述圖像傳感器位于所述第一軸上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,
具有與同所述相位范圍相應(yīng)的所述結(jié)構(gòu)光的平均光量相應(yīng)的光量的光,到達(dá)所述對(duì)象體表面上的所述一部分區(qū)域的各點(diǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的檢查裝置,其中,包括:
第一光圈,其使從所述結(jié)構(gòu)光源照射的所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光分別穿過所述第一光束分離器;及
第二光圈,其使從所述對(duì)象體表面反射的所述多個(gè)反射光分別穿過所述圖像傳感器;
所述光量值,基于由所述結(jié)構(gòu)光穿過所述第一光圈后從所述對(duì)象體表面反射而生成的所述反射光,穿過所述第二光圈并被所述圖像傳感器所捕獲的光量而決定,
穿過所述第二光圈的所述反射光的光量,根據(jù)所述對(duì)象體表面的角度而變化。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,
所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光分別由一個(gè)結(jié)構(gòu)光按預(yù)先設(shè)置的相位間隔進(jìn)行相移而生成。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的檢查裝置,其中,
所述圖案發(fā)生器為L(zhǎng)CoS。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查裝置,其中,
所述多個(gè)結(jié)構(gòu)光分別具有沿第一方向或與所述第一方向垂直的第二方向的圖案。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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