[發明專利]多功能光學膜及其生產方法

有效

• 申請號: 201910972175.1
• 申請日: 2019-10-14
• 公開（公告）號: CN110673235B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 邵崢
• 申請（專利權）人: 寧波盈瑞聚合科技有限公司
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;G02B1/115;B29D7/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.多功能光學膜,包括基板,其特征在于：它還包括在基板表面由內向外依次分布的減反射膜層、化學加硬膜層和物理加硬膜層；

所述減反射膜層為多層減反射膜，包括從內至外依次分布的二氧化鈰膜層、氧化銦錫膜層、氮化硅膜層和二氧化硅膜層；

所述化學加硬膜層為以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷為單體，與環氧樹脂混合制成的耐磨膜層；

所述物理加硬膜層為金剛石膜層；

多功能光學膜的生產方法包括以下步驟：

(1)對基板進行表面處理，依次包括拋光、手工擦拭、超聲波清洗和離子轟擊四個步驟；

(2)將金屬鈰放入蒸發器皿中，蒸發前對金屬鈰進行拋光打磨，清洗后迅速放入真空室，蒸發時通入氧氣，基板溫度為500℃，在基板表面鍍制一層二氧化鈰膜層；

(3)稱取一定量的氯化銦和氯化錫配制成水溶液，在70℃恒溫時，在劇烈的攪拌下加入氨水至PH＝8時停止，并加入一定量的聚乙烯醇，繼續攪拌2小時，在50℃下靜置老化2小時，采用離心分離洗滌沉淀，過濾后真空干燥3小時，在800℃下煅燒1小時后得到氧化銦錫納米粉末，然后對其研磨，使其粒度變小，制得的最終產物氧化銦和氧化錫質量比為9：1，將氧化銦錫納米粉末與去離子水、分散劑按照一定比例混合，用高速分散機分散20分鐘，得到氧化銦錫料漿，將氧化銦錫料漿涂布在二氧化鈰膜層表面，然后放入烘箱進行固化，制得一層氧化銦錫膜層，使氧化銦錫膜層的折射率小于二氧化鈰膜層的折射率；

(4)在氧化銦錫膜層表面沉積氮化硅膜層，使氮化硅膜層的折射率小于氧化銦錫膜層的折射率；

(5)在氮化硅膜層表面沉積二氧化硅膜層，使二氧化硅膜層的折射率小于氮化硅膜層的折射率；

(6)以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷為單體，摻入環氧樹脂制備耐磨膜層加硬液，將加硬液噴涂在二氧化硅膜層表面，形成化學加硬膜層；

(7)在化學加硬膜層表面鍍上一層金剛石膜層，制得多功能光學膜；

(8)對多功能光學膜進行老化處理；

步驟(8)中，老化處理是指：將多功能光學膜在空氣中進行烘烤退火處理，烘烤溫度為250-400攝氏度，烘烤時間為6-8小時。

2.根據權利要求1所述的多功能光學膜，其特征在于：步驟(1)中，手工擦拭采用乙醇和乙醚的混合液蘸在脫脂紗布上對基板進行擦拭。

3.根據權利要求1所述的多功能光學膜，其特征在于：步驟(1)中，離子轟擊的電壓為5千伏，電流80毫安，轟擊時間為5分鐘，轟擊結束后在3分鐘內在基板表面鍍制二氧化鈰膜層。