[發明專利]一種去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的系統及方法在審
| 申請號: | 201910966483.3 | 申請日: | 2019-10-12 |
| 公開(公告)號: | CN110642440A | 公開(公告)日: | 2020-01-03 |
| 發明(設計)人: | 夏萍;葉輝;王錚;姜蕾;金磊;張雙翼 | 申請(專利權)人: | 上海城市水資源開發利用國家工程中心有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/08 | 分類號: | C02F9/08;C02F1/32;C02F1/72;C02F101/34;C02F101/36;C02F101/38 |
| 代理公司: | 31274 上海國智知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 潘建玲 |
| 地址: | 200082 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 去除 抗生素 活性炭工藝 雙氧水 工藝流程 處理水 砂濾池 紫外燈 水廠 沉積池 混凝池 出水 加藥 進水 砂濾 聯合 | ||
本發明公開了一種去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的系統及方法,該系統包括混凝池、沉積池、砂濾池以及活性炭工藝裝置,所述系統還包括UV裝置,所述UV裝置連接在所述砂濾池與活性炭工藝裝置之間,砂濾后的處理水流進所述所述UV裝置,進水的同時以加藥的方式注入雙氧水,所述UV裝置內設紫外燈,開啟所述UV裝置的紫外燈,以使紫外強度達到穩定狀態,該UV裝置的出水即為去除抗生素的處理水,該去除抗生素后的處理水再經過所述活性炭工藝裝置去除未反應的雙氧水,本發明可實現利用UV/H2O2聯合去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的目的。
技術領域
本發明涉及水處理技術領域,特別是涉及一種利用UV/H2O2聯合去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的系統及方法。
背景技術
抗生素作為一種典型的PPCPs污染物是頗受關注的一類污染類型,我國許多江河湖海的地表水都曾檢測出過,如華南的珠江、華中的長江以及華北的黃河等。據統計,我國每年約生產21萬t抗生素,其中42%被用于醫療,48%被用于畜牧業。實驗數據證明,更多種類的抗生素在全球范圍的生態水環境中被檢測出。而生態水環境中的抗生素通常經由飲用水進入人體,從而引發人體的抗藥性,長期危害較大。
進入水環境后,抗生素會在水體、懸浮顆粒物、沉積物以及水生生物等介質中發生遷移轉化過程,這些遷移轉化過程主要包括吸附、生物降解與光降解等。抗生素經由一系列遷移轉化過程,或完全礦化為CO2和H2O,或被降解為其它中間產物與代謝產物,部分難降解的抗生素污染物會在環境中持續累積。研究表明,大部分水廠出水中仍然能檢測到抗生素。
飲用水中的抗生素污染對人體健康的潛在危害主要表現在:由于生物處理無法完全去除水體中含有耐藥基因的微生物,使得水處理廠出水成為耐藥基因散播的渠道之一,進而通過滲濾等途徑進入地下水與飲用水中,人體長期飲用受藥物污染的飲用水會引起腸胃道感染、消化道菌群失調等不良反應,同時還會導致人體內耐藥菌增加。
目前,水廠的常規工藝包括混凝-沉淀-砂濾-活性炭過濾,雖然這種工藝一般可有效去除水中的有機物,但是,這種工藝難以去除飲用水中難以去除的抗生素。
發明內容
為克服上述現有技術存在的不足,本發明之目的在于提供一種去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的系統及方法,以實現利用UV/H2O2聯合去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的目的。
為達上述目的,本發明提出一種去除水廠工藝流程中難去除的抗生素的系統,包括混凝池、沉積池、砂濾池以及活性炭工藝裝置,所述系統還包括UV裝置,所述UV裝置連接在所述砂濾池與活性炭工藝裝置之間,砂濾后的處理水流進所述所述UV裝置,進水的同時以加藥的方式注入雙氧水,所述UV裝置內設紫外燈,以通過所述UV裝置的紫外燈,使紫外強度達到穩定狀態,該UV裝置的出水即為去除抗生素的處理水,該去除抗生素后的處理水再經過所述活性炭工藝裝置去除未反應的雙氧水。
優選地,注入雙氧水混合后參與反應的雙氧水濃度為3~6mg/L。
優選地,進水的同時以加藥的方式向所述UV裝置中注入酸性溶液或堿性溶液以調節所述UV裝置中的處理水的pH值為6.0~8.0。
優選地,以加藥的方式向所述UV裝置中注入硫酸或氫氧化鈉以調節所述UV裝置中的處理水的pH值為6.0~8.0。
優選地,利用流量泵調節所述UV裝置中水流量為2-4m3/h,水力停留時間為h。
優選地,所述UV裝置內設200-300nm的紫外燈,其照射強度為600~700mJ/cm2。
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