[發(fā)明專利]一種氣井井口霧化加藥裝置及輸氣系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910964673.1 | 申請日: | 2019-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN112646622B | 公開(公告)日: | 2022-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 符偉兵;狄偉;梁文龍;王錦昌;隋冬梅;王萍;林新宇;李璇;張陽 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司華北油氣分公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78;B01D53/52;B01D45/16;C10L3/10 |
| 代理公司: | 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 41119 | 代理人: | 胡偉華 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氣井 井口 霧化 裝置 系統(tǒng) | ||
1.一種氣井井口霧化加藥裝置,加藥裝置在使用時連接于地面輸氣管線上,具有供產(chǎn)出流體進(jìn)入的裝置進(jìn)口和供除硫后的氣液混合物流出的裝置出口,其特征是,加藥裝置包括:
除硫結(jié)構(gòu),包括除硫殼體,除硫殼體具有除硫內(nèi)腔,除硫殼體設(shè)有與除硫內(nèi)腔連通的所述裝置出口;
除硫劑輸送通道,設(shè)有用于向除硫內(nèi)腔中噴射除硫劑噴霧以對氣體進(jìn)行除硫的霧化噴頭,除硫內(nèi)腔包括除硫劑混合室,所述霧化噴頭設(shè)于除硫劑混合室中,除硫內(nèi)腔還包括將除硫劑混合室中的氣體引向裝置出口的氣體流道,氣體流道的進(jìn)口設(shè)于除硫劑混合室的頂端;氣液分離器,設(shè)于除硫結(jié)構(gòu)的上游,用于將產(chǎn)出流體中的氣、液進(jìn)行分離,設(shè)有所述裝置進(jìn)口,還設(shè)有將分離后的氣體輸送至除硫內(nèi)腔中的氣液分離器出口,氣液分離器出口用于供分離后的氣體和液體均進(jìn)入所述除硫劑混合室中,除硫內(nèi)腔還包括沿氣體流動方向設(shè)于氣體流道下游的氣液混合室,氣液混合室與所述裝置出口相連,加藥裝置還包括連通除硫劑混合室底部與氣液混合室的液體通道,氣體流道具有氣體出口,液體通道具有液體出口,液體出口設(shè)于氣體出口的上方;氣體流道的氣體出口用于朝由液體通道流出的液體噴吹氣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,氣液分離器包括氣液分離器殼體,氣液分離器殼體中設(shè)有由裝置進(jìn)口至氣液分離器出口傾斜向下延伸的通道,氣液分離器還包括設(shè)于通道內(nèi)的導(dǎo)流板,所述導(dǎo)流板沿所述通道的延伸方向螺旋延伸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,所述氣體流道具有彎曲延伸以延長氣體流動長度的彎曲流道,所述彎曲流道上下延伸,且氣體流道與除硫劑混合室沿水平方向并排布置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,加藥裝置還包括用于向氣體流道中輸送清洗液的清洗液輸送通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,氣體流道的延伸長度大于液體通道的延伸長度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,氣體流道的橫截面面積大于液體通道的橫截面面積。
7.一種輸氣系統(tǒng),包括采氣樹和地面輸氣管線,還包括布置在兩者之間的氣井井口霧化加藥裝置,其特征是,氣井井口霧化加藥裝置為權(quán)利要求1-6中任意一項所述的氣井井口霧化加藥裝置。
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