[發明專利]光學膜、柔性顯示裝置及光學膜的制造方法有效
| 申請號： | 201910947399.7 | 申請日： | 2019-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN110673233B | 公開（公告）日： | 2022-11-15 |
| 發明（設計）人： | 大松一喜;唐澤真義;福井仁之 | 申請（專利權）人： | 住友化學株式會社 |
| 主分類號： | G02B1/04 | 分類號： | G02B1/04;G09F9/30;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 楊宏軍;唐崢 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 柔性 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.光學膜，其包含重均分子量為23萬以上的聚酰亞胺系樹脂及/或聚酰胺系樹脂、以及平均一次粒徑為5～35nm的填料，其中，
將膜逆空間圖像中彼此正交的方向h及方向v的線輪廓分別設為線輪廓h及線輪廓v，所述膜逆空間圖像是對使用所述光學膜由投影法得到的投影圖像進行傅里葉變換而得到的，
將背景逆空間圖像中彼此正交的方向h’及方向v’的線輪廓分別設為線輪廓h’及線輪廓v’，所述背景逆空間圖像是對在所述投影法中以不使用所述光學膜的方式得到的背景圖像進行傅里葉變換而得到的，
將從線輪廓h減去線輪廓h’而得到的線輪廓(h-h’)的最大強度設為Ymh，將顯示出最大強度Ymh的頻率設為Xmh，將從線輪廓v減去線輪廓v’而得到的線輪廓(v-v’)的最大強度設為Ymv，將顯示出最大強度Ymv的頻率設為Xmv時，Ymh及Ymv均為30以下，且Ymh、Ymv、Xmh及Xmv滿足以下的關系：
(Ymh+Ymv)/(Xmh+Xmv)1/2≤25
所述聚酰亞胺系樹脂為具有式(1)表示的結構單元的聚酰亞胺樹脂，
所述聚酰胺系樹脂為具有式(1)表示的結構單元及式(2)表示的結構單元的聚酰胺酰亞胺樹脂，
式(1)及式(2)中，X為具有環狀結構的碳原子數4～40的二價有機基團，Z為可以被碳原子數1～8的烴基或經氟取代的碳原子數1～8的烴基取代的、具有環狀結構的碳原子數4～40的有機基團，式(1)中，Y為具有環狀結構的碳原子數4～40的四價有機基團，
所述填料為選自由二氧化硅粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子組成的組中的填料，
所述光學膜是通過包括下述步驟的制造方法而得到的，所述步驟為：
將至少含有重均分子量為23萬以上的聚酰亞胺系樹脂及/或聚酰胺系樹脂、平均一次粒徑為5～35nm的填料、以及溶劑的清漆涂布于具有±3μm以下的膜厚分布的支承體上并使其干燥；以及
在使干燥涂膜沿面內方向均勻地伸展的狀態下實施后烘烤處理。
2.如權利要求1所述的光學膜，其中，將膜的MD方向的撕裂強度設為EMD(N/mm)，將TD方向的撕裂強度設為ETD(N/mm)時，EMD相對于ETD的比例(EMD/ETD)為0.93以上。
3.如權利要求1或2所述的光學膜，其中，膜的黃色度為3以下。
4.如權利要求1或2所述的光學膜，其中，填料為二氧化硅粒子。
5.如權利要求1或2所述的光學膜，其中，填料的含量相對于光學膜的質量而言為5～60質量％。
6.如權利要求1或2所述的光學膜，其為用于柔性顯示裝置的前面板的膜。
7.柔性顯示裝置，其具備權利要求1～6中任一項所述的光學膜。
8.如權利要求7所述的柔性顯示裝置，其還具備觸摸傳感器。
9.如權利要求7或8所述的柔性顯示裝置，其還具備偏光板。
10.權利要求1～6中任一項所述的光學膜的制造方法，其至少包括下述工序：
工序(a)，將至少含有重均分子量為23萬以上的聚酰亞胺系樹脂及/或聚酰胺系樹脂、平均一次粒徑為5～35nm的填料、以及溶劑的清漆涂布于支承體上，使其干燥，從而形成涂膜；
工序(b)，將涂膜從支承體剝離；以及
工序(c)，對剝離的涂膜進行加熱，得到膜。
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