[發明專利]樣品倉、光譜檢測系統、樣品厚度測量方法及裝置

在審

• 申請號: 201910945323.0
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN110542386A
• 公開（公告）日: 2019-12-06
• 發明（設計）人: 黃培雄;張前成
• 申請（專利權）人: 深圳市太赫茲科技創新研究院有限公司;雄安華訊方舟科技有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06
• 代理公司: 44414 深圳中一聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 李娟<國際申請>=<國際公布>=<進入國

本申請適用于計算機技術領域，提出一種樣品倉、光譜檢測系統、樣品厚度測量方法及裝置，樣品倉包括相對的第一側壁和第二側壁；第一側壁反射太赫茲波形成第一反射信號，透射太赫茲波形成第一透射信號；第二側壁全反射第二透射信號，形成第二反射信號；待測樣品的第一表面和第二表面分別反射第一透射信號形成第三反射信號和第四反射信號。由于太赫茲波在空氣中的傳播速度、第一側壁和第二側壁之間的距離均已知，因此通過樣品倉測量出接收到第一反射信號和第三反射信號的時間差，以及接收到第二反射信號和第四反射信號的時間差，可以計算待測樣品的厚度，能夠實現對未知折射率樣品的厚度進行測量。

技術領域

本申請屬于計算機技術領域，尤其涉及一種樣品倉、光譜檢測系統、樣品厚度測量方法及裝置。

背景技術

在利用太赫茲脈沖測量厚度時，常采用時差法。傳統時差法測量厚度除了需要測量樣品上反射脈沖出現的時間差，還需要知道樣品的折射率才能夠求出樣品的厚度，無法對未知折射率樣品的厚度進行測量。

發明內容

有鑒于此，本申請實施例提供了樣品倉、光譜檢測系統、樣品厚度測量方法、裝置、處理設備及存儲介質，以解決現有技術中無法對未知折射率樣品的厚度進行測量的問題。

本申請實施例的第一方面提供了一種樣品倉，包括相對設置的第一側壁和第二側壁，所述第一側壁和所述第二側壁之間的空間用于放置待測樣品；

所述第一側壁用于反射入射的太赫茲波形成第一反射信號，以及透射所述太赫茲波形成第一透射信號；

所述第二側壁用于全反射第二透射信號，形成第二反射信號；所述第二透射信號由所述第一透射信號透過所述待測樣品形成；

所述待測樣品包括相對的第一表面和第二表面，所述第一表面和所述第二表面均與所述第一側壁和所述第二側壁平行；

所述第一透射信號傳輸至所述第一表面發生反射形成第三反射信號，以及傳輸至所述第二表面發生反射形成第四反射信號；所述第一側壁與所述第二側壁之間的距離、所述第一反射信號、所述第二反射信號、所述第三反射信號以及所述第四反射信號用于計算所述待測樣品的第一表面與第二表面之間的厚度。

在一種可選的實現方式中，還包括位移設備，所述位移設備用于帶動所述待測樣品按垂直于所述第一側壁和所述第二側壁的方向移動。

在一種可選的實現方式中，所述第一側壁相對所述第二側壁的內表面設置有預設大小的第一薄膜，所述第一薄膜用于使入射的太赫茲波發生反射形成所述第一反射信號以及使所述太赫茲波發生透射形成所述第一透射信號；

所述第二側壁相對所述第一側壁的內表面設置有第二薄膜，所述第二薄膜用于使所述第二透射信號發生全反射形成第二反射信號；所述第二透射信號由所述第一透射信號透過所述待測樣品形成。

本申請實施例的第二方面提供了一種光譜檢測系統，包括：太赫茲發射器、太赫茲波檢測器以及上述第一方面所述的樣品倉；

所述太赫茲發射器用于向所述樣品倉的第一側壁發射太赫茲波；

所述太赫茲波檢測器用于接收所述第一側壁反射的第一反射信號、所述樣品倉的第二側壁反射的第二反射信號、待測樣品的第一表面反射的第三反射信號以及所述待測樣品的第二表面發射的第四反射信號；

所述第一側壁與所述第二側壁之間的距離、所述第一反射信號、所述第二反射信號、所述第三反射信號以及所述第四反射信號用于計算所述待測樣品的第一表面與第二表面之間的厚度。

本申請第三方面提供了一種基于光譜檢測系統測量樣品厚度的方法，所述光譜檢測系統為上述第二方面所述的光譜檢測系統，包括：

檢測到樣品倉中有待測樣品后，獲取所述光譜檢測系統檢測到的反射信號的時間信息，所述反射信號包括第一反射信號、第二反射信號、第三反射信號以及第四反射信號；