[發(fā)明專利]一種金屬鎢的沉積方法以及金屬鎢的沉積結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910945179.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110714189B | 公開(公告)日: | 2022-01-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 熊少游;程磊;詹侃;周烽;左明光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/14 | 分類號(hào): | C23C16/14;C23C16/56;H01L21/768;H01L23/532 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 李梅香;張穎玲 |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市洪山區(qū)東*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬 沉積 方法 以及 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種金屬鎢的沉積方法,其特征在于,所述方法包括:
形成鎢形核層;
基于所述鎢形核層沉積第一鎢生長(zhǎng)層;
對(duì)所述第一鎢生長(zhǎng)層執(zhí)行退火工藝;其中,所述退火工藝是穿插在所述金屬鎢的沉積過程中的,并且是在所述金屬鎢的沉積腔室內(nèi)直接執(zhí)行的;
在退火后的所述第一鎢生長(zhǎng)層上沉積第二鎢生長(zhǎng)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一鎢生長(zhǎng)層在第一溫度下沉積形成,所述第二鎢生長(zhǎng)層在第二溫度下沉積形成,所述第二溫度高于所述第一溫度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述執(zhí)行退火工藝在第二溫度下進(jìn)行。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述第二溫度在420℃以上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述執(zhí)行退火工藝在氫氣氣氛下進(jìn)行。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在沉積所述第二鎢生長(zhǎng)層后,所述方法還包括:
對(duì)所述第二鎢生長(zhǎng)層執(zhí)行退火工藝;
在退火后的所述第二鎢生長(zhǎng)層上沉積第三鎢生長(zhǎng)層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述第三鎢生長(zhǎng)層與所述第二鎢生長(zhǎng)層在相同的溫度下沉積形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述金屬鎢的沉積方法在一化學(xué)氣相沉積裝置內(nèi)的多個(gè)沉積位置上執(zhí)行,所述多個(gè)沉積位置分布在所述裝置內(nèi)的多個(gè)不同空間位置上,所述裝置在所述多個(gè)沉積位置上能夠分別獨(dú)立執(zhí)行化學(xué)氣相沉積工藝;所述退火工藝與所述沉積第二鎢生長(zhǎng)層在所述裝置的同一沉積位置上執(zhí)行。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,所述沉積第一鎢生長(zhǎng)層的部分過程與所述形成鎢形核層在所述裝置的同一沉積位置上執(zhí)行。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述金屬鎢的沉積方法中采用的反應(yīng)氣體包括:六氟化鎢。
11.一種金屬鎢的沉積結(jié)構(gòu),其特征在于,所述金屬鎢的沉積結(jié)構(gòu)通過權(quán)利要求1至10中任意一項(xiàng)所述的方法沉積形成。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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