[發明專利]發聲裝置及安裝有該發聲裝置的聲學模塊及電子設備

有效

• 申請號: 201910939601.1
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN110753292B
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 葛連山;王興龍
• 申請（專利權）人: 歌爾科技有限公司
• 主分類號: H04R9/06
• 分類號: H04R9/06;H04R9/02;H04R7/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

發明提供了一種發聲裝置，包括振動組件和磁路組件，所述振動組件包括振膜，其中，所述磁路組件的中間區域鏤空形成貫穿所述磁路組件的擴容腔，所述磁路組件上位于所述擴容腔內的區域設置有柔性形變部；所述柔性形變部覆蓋于所述擴容腔的端口處或者所述柔性形變部將所述擴容腔間隔為相互隔離的兩部分區域；所述柔性形變部正對所述振膜設置；所述振膜包括振膜本體部和復合層，所述復合層結合于所述振膜本體部的中間位置，所述復合層上設有向所述柔性形變部一側延伸并與所述柔性形變部連接的連接部；所述柔性形變部與所述振膜同步振動。這種發聲裝置增大了發聲裝置后聲腔的等效容積，提升了發聲裝置的低頻靈敏度；并且可以抑制振膜的偏振。

技術領域

本發明涉及聲學技術領域，更具體地，涉及一種發聲裝置及安裝有該發聲裝置的聲學模塊及電子設備。

背景技術

一般而言，傳統結構的聲學系統包括封閉箱體和設置在封閉箱體上的發聲單元，封閉箱體與發聲單元之間形成腔室，由于聲學系統中的的腔室的容積限制，聲學系統尤其是小型聲學系統很難實現能令人滿意地低音再現效果。常規地，為了在聲學系統中實現令人滿意的低音再現，通常采用兩種手段，一種是將吸音材料設置于聲學系統的箱體內，用于吸附或脫附箱體內的氣體，起到容積增大進而降低低頻諧振頻率的效果，另一種是在聲學系統的箱體上設置被動輻射體。

但是上述兩種手段均存在問題，第一種在箱體中添加吸音材料的方案，需要實現吸音材料的良好密封封裝，否則如果吸音材料進入發聲單元，則損害發聲單元的聲學性能，影響發聲單元的使用壽命；第二種采用被動輻射體的方案，只能提升共振點附近頻段的靈敏度，不能對全部低頻段有所提升。

因此，需要提供一種新型的發聲裝置，以提升其低音再現效果。

發明內容

本發明的一個目的是提供一種發聲裝置，可以顯著的提升發聲裝置的低音再現效果，并可以抑制振膜的偏振。

為解決上述技術問題，本發明提供的技術方案是：

一種發聲裝置，包括振動組件和磁路組件，所述振動組件包括振膜，所述振膜振動產生聲波，其中，所述磁路組件的中間區域鏤空形成貫穿所述磁路組件的擴容腔，所述磁路組件上位于所述擴容腔內的區域設置有柔性形變部；所述柔性形變部覆蓋于所述擴容腔的端口處或者所述柔性形變部將所述擴容腔間隔為相互隔離的兩部分區域；所述柔性形變部正對所述振膜設置；所述振膜包括振膜本體部和復合層，所述復合層結合于所述振膜本體部的中間位置，所述復合層上設有向所述柔性形變部一側延伸并與所述柔性形變部連接的連接部；所述柔性形變部與所述振膜同步振動。

優選的，所述柔性形變部包括位于中間位置的中間部和位于邊緣位置的邊緣部，所述中間部為平面狀結構，所述邊緣部為凸起的弧面結構；或者，所述柔性形變部包括位于中間位置的中間部和位于邊緣位置的邊緣部，所述中間部為平面狀結構，所述邊緣部為波浪型結構；所述復合層的所述連接部與所述中間部固定結合。

優選的，所述連接部為所述復合層下凹形成的凹槽狀結構，凹槽狀所述連接部的槽底與所述柔性形變部的中間部固定結合。

優選的，所述連接部的槽底的形狀與所述中間部的形狀相同，并且所述槽底的尺寸與所述中間部的尺寸相同，所述槽底與所述中間部對應結合。

優選的，所述邊緣部可以發生形變，并且所述邊緣部的最大形變位移不小于所述振膜的最大振幅。

優選的，所述柔性形變部為波浪型結構，所述連接部結合于所述柔性形變部的中心位置；并且，所述柔性形變部的最大形變位移不小于所述振膜的最大振幅。

優選的，所述磁路組件包括依次結合的上導磁板，中心磁鐵和下導磁板；所述柔性形變部結合于所述上導磁板上，或者所述柔性形變部結合于所述上導磁板與所述中心磁鐵之間。