[發(fā)明專利]聚二甲基硅氧烷薄膜、柔性電容傳感器及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910936969.2 | 申請日: | 2019-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN110763256B | 公開(公告)日: | 2021-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳豪;魏丹陽 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東思谷智能技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01D5/24 | 分類號: | G01D5/24 |
| 代理公司: | 東莞卓為知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44429 | 代理人: | 齊海迪 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市松山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聚二甲基硅氧烷 薄膜 柔性 電容 傳感器 及其 制備 方法 | ||
1.一種聚二甲基硅氧烷薄膜,其特征在于:具有多層階梯介孔微結(jié)構(gòu),其制備方法包括如下步驟:
(b1)將聚二甲基硅氧烷與去離子水?dāng)嚢杌旌?,得到懸浮液?/p>
(b2)將懸浮液進(jìn)行離心處理,待形成分層結(jié)構(gòu)后,將懸浮液干燥,以去除去離子水,然后剝離出所述聚二甲基硅氧烷薄膜。
2.一種高靈敏度柔性電容傳感器,其特征在于:該傳感器包括上電極層、中間電介質(zhì)層和下電極層;其中,所述上電極層和下電極層的結(jié)構(gòu)相同,均包括柔性基體材料和鑲嵌在該柔性基體材料中的液態(tài)金屬;所述中間電介質(zhì)層介于所述上、下電極層之間,所述電介質(zhì)層為權(quán)利要求1所述的聚二甲基硅氧烷薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高靈敏度柔性電容傳感器,其特征在于:所述上電極層和下電極層之間的距離優(yōu)選為20um~250um,上電極層和下電極層的厚度為50um~250um,中間電介質(zhì)層的厚度為20um~250um。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高靈敏度柔性電容傳感器,其特征在于:所述柔性基體材料優(yōu)選為PDMS、ecoflex、PI、PTFE或PET。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高靈敏度柔性電容傳感器,其特征在于:所述液態(tài)金屬為鎵銦錫合金。
6.一種如權(quán)利要求2-5任一項所述的高靈敏度柔性電容傳感器的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
(a)制備上電極層和下電極層
(a1)選取基板和犧牲層溶液,將犧牲層溶液旋涂在所述基板上,待所述犧牲層溶液固化后在所述基體上形成犧牲層,在該犧牲層上旋涂所述柔性基體材料的溶液,固化后在所述犧牲層上形成柔性基體層;
(a2)在所述柔性基體層表面采用光刻技術(shù)制作掩膜版,在該掩膜版上濺射粘附層,然后在粘附層上填充液態(tài)金屬,去除所述掩膜版,其中,所述粘附層用于粘結(jié)柔性基體層和液態(tài)金屬;
(a3)在填充有液態(tài)金屬的柔性基體層上再次旋涂所述柔性基體層溶液,固化后所述液態(tài)金屬鑲嵌在所述柔性基體層中,將基板放入水中,所述犧牲層溶于水使得柔性基體層與所述基板分離,以此分別獲得上電極層和下電極層;
(b)制備中間電介質(zhì)層
(b1)將聚二甲基硅氧烷與去離子水?dāng)嚢杌旌?,得到懸浮液?/p>
(b2)將懸浮液進(jìn)行離心處理,待形成分層結(jié)構(gòu)后,將懸浮液干燥,以去除去離子水,然后剝離出所述聚二甲基硅氧烷薄膜;
(c)采用反應(yīng)離子刻蝕的方式將所述上電極層、中間電介質(zhì)層和下電極層從上自下依次粘結(jié)在一起,以此獲得所需的高靈敏度柔性電容傳感器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高靈敏度柔性電容傳感器的制備方法,其特征在于:在步驟(a2)中,所述粘附層優(yōu)選包括上下兩層,下層為10nm~40nm厚的鉻,上層為50nm~250nm厚的金,其中,所述金用于連接鎵銦錫合金與鉻,所述鉻用于連接所述金與所述柔性基體材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高靈敏度柔性電容傳感器的制備方法,其特征在于:所述犧牲層溶液為聚乙烯醇溶液。
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G01D 非專用于特定變量的測量;不包含在其他單獨小類中的測量兩個或多個變量的裝置;計費設(shè)備;非專用于特定變量的傳輸或轉(zhuǎn)換裝置;未列入其他類目的測量或測試
G01D5-00 用于傳遞傳感構(gòu)件的輸出的機械裝置;將傳感構(gòu)件的輸出變換成不同變量的裝置,其中傳感構(gòu)件的形式和特性不限制變換裝置;非專用于特定變量的變換器
G01D5-02 .采用機械裝置
G01D5-12 .采用電或磁裝置
G01D5-26 .采用光學(xué)裝置,即應(yīng)用紅外光、可見光或紫外光
G01D5-42 .采用流體裝置
G01D5-48 .采用波或粒子輻射裝置





