[發明專利]限位機構、掩模臺及光刻機

有效

• 申請號: 201910935175.4
• 申請日: 2019-09-29
• 公開（公告）號: CN112578639B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 錢林峰;黃亞慶;叢國棟
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發明提供了一種限位機構、掩模臺及光刻機，運動部件設置于掩模臺框架上并能夠相對所述掩模臺框架移動，限位機構設置于所述掩模臺框架的掩模交接位上，所述限位機構的位置檢測模塊用于檢測所述運動部件是否移動至所述掩模交接位時，所述限位機構的限位模塊在所述運動部件到位時伸出以對所述運動部件進行限位，從而實現了進行掩模板交接時對所述運動部件進行限位的功能，保證了掩模板交接時的安全性。

技術領域

本發明涉及半導體制備技術領域，尤其涉及一種限位機構、掩模臺及光刻機。

背景技術

光刻機主要用于集成電路IC或其它微型器件的制造。通過光刻機將具有不同掩模圖案的多層掩模在精確對準下依次成像在涂覆有光刻膠的晶片上，例如半導體晶片或LCD板。光刻機大體上分為兩類，一類是步進光刻機，掩模圖案一次曝光成像在晶片的一個曝光區域，隨后晶片相對于掩模移動，將下一個曝光區域移動到掩模圖案和投影物鏡下方，再一次將掩模圖案曝光在晶片的另一曝光區域，重復這一過程直到晶片上所有曝光區域都擁有掩模圖案。另一類是步進掃描光刻機，在上述過程中，掩模圖案不是一次曝光成像，而是通過投影光場的掃描移動成像。在掩模圖案成像過程中，掩模與晶片同時相對于投影系統和投影光束移動。在上述的光刻機中，需具有相應的裝置作為掩模板和硅片的載體，裝載有掩模板的載體產生精確的運動來滿足光刻需要。

在掃描光刻機中，掩模臺一般通過微動臺和粗動臺構成，微動臺完成掩模板的精密微調，粗動臺完成掩模板的大行程掃描曝光運動。隨著業內對于產率的不斷追求，掩模臺的定位精度、掃描運動速度和加速度需求不斷提高，當掩模臺進行掩模板交接時，需要掩模臺的粗動臺運動到掩模交接位置，交接過程中，傳輸機械手會進入掩模臺內部，為防止意外情況下粗動運動導致傳輸機械手與掩模臺發生碰撞，需在掩模交接位置對粗動臺進行機械限位。

發明內容

本發明的目的在于提供一種限位機構、掩模臺及光刻機，能夠在進行掩模板交接時對運動部件進行限位，保證了掩模板交接的安全性。

為了達到上述目的，本發明提供了一種限位機構，包括：

位置檢測模塊，用于檢測一運動部件是否到位；

限位模塊，在所述運動部件到位時伸出以對所述運動部件進行限位。

可選的，所述運動部件具有一限位孔，所述限位模塊包括：

限位銷，當所述運動部件到位后，所述限位銷與所述限位孔對準；

驅動單元，用于驅動所述限位銷伸入或退出所述限位孔。

可選的，所述限位銷伸入所述限位孔的一端與所述限位孔的形狀相同。

可選的，所述限位孔為腰型孔，所述限位銷為偏心銷，通過軸向旋轉所述偏心銷以調整所述偏心銷與所述限位孔之間的橫向位置。

可選的，所述限位模塊還包括能夠隨所述限位銷旋轉的鎖緊單元，所述鎖緊單元包括：

偏心軸套，套接于所述限位銷外；

軸套座，套接于所述限位銷外，并鎖緊所述限位銷的徑向。

可選的，所述鎖緊單元設置于一固定框架上，所述軸套座上具有至少兩個同心的虛擬環面，至少兩個虛擬環面的圓心與所述限位銷的旋轉中心重合，每個所述虛擬環面上設置有若干調節通槽，每個所述虛擬環面對應的固定框架上設置有至少一個螺紋孔，所述軸套座處于任意角度時均至少有一個所述螺紋孔從所述調節通槽中露出，以通過在所述螺紋孔內擰入螺釘鎖緊所述限位銷的徑向。

可選的，所有所述調節通槽的不重合部分的圓心角的總和等于360度。

可選的，所述同心的虛擬環面具有至少一條虛擬直徑，所述螺紋孔位于所述虛擬直徑與所述虛擬環面的至少一個交界處，在所述虛擬直徑上，所述虛擬環面的圓心的兩側均至少具有一個所述螺紋孔。