[發(fā)明專利]發(fā)光器件和顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910935140.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110649172A | 公開(公告)日: | 2020-01-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 焦志強(qiáng);柳在一 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/50 | 分類號(hào): | H01L51/50;H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司: | 11330 北京市立方律師事務(wù)所 | 代理人: | 張?bào)銓?宋海斌 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光器件 發(fā)光層 阻擋層 緩沖 預(yù)設(shè) 電子注入層 金屬原子 金屬原子擴(kuò)散 陰極 阻擋 電子傳輸層 電子阻擋層 空穴傳輸層 空穴注入層 電荷傳輸 發(fā)光效率 界面特性 隧穿效應(yīng) 顯示裝置 依次設(shè)置 電荷 陽(yáng)極 鋰原子 基板 猝滅 申請(qǐng) 穿過 擴(kuò)散 | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N發(fā)光器件和顯示裝置。該發(fā)光器件包括:依次設(shè)置的基板、陽(yáng)極、空穴注入層、第一空穴傳輸層、第一電子阻擋層、第一發(fā)光層、第一電子傳輸層、電子注入層以及陰極。發(fā)光器件還包括:第一緩沖阻擋層,設(shè)置在第一發(fā)光層和電子注入層之間,用于阻擋預(yù)設(shè)金屬原子擴(kuò)散至發(fā)光器件中的第一發(fā)光層。本申請(qǐng)中第一緩沖阻擋層可以用于阻擋預(yù)設(shè)金屬原子(例如,鋰原子)擴(kuò)散至發(fā)光器件中的第一發(fā)光層、以及第一發(fā)光層與其它層之間的界面,大大降低預(yù)設(shè)金屬原子形成猝滅中心以及影響界面特性的幾率,而且電荷可以通過隧穿效應(yīng)穿過第一緩沖阻擋層,在不影響發(fā)光器件的電荷傳輸?shù)耐瑫r(shí),可提升發(fā)光器件的發(fā)光效率和壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種發(fā)光器件和顯示裝置。
背景技術(shù)
隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,液晶顯示器因?yàn)槠潴w積小以及重量輕的優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)逐漸取代傳統(tǒng)的體積較為龐大的陰極射線顯示器,已被廣泛地應(yīng)用于顯示器、筆記本電腦、平板電視、數(shù)碼相機(jī)等電子產(chǎn)品。
傳統(tǒng)的有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,OLED)顯示裝置由于具有自發(fā)光功能、無需背光模組、對(duì)比度以及清晰度高等一系列優(yōu)異特性,已經(jīng)成為新一代平面顯示裝置的重點(diǎn)發(fā)展方向之一,因此日益受到越來越多的關(guān)注。盡管OLED制造技術(shù)已經(jīng)較為成熟,但是,OLED中發(fā)光器件的性能仍然是制約其走向大規(guī)模應(yīng)用和提高競(jìng)爭(zhēng)力的一個(gè)關(guān)鍵問題。
具體而言,影響OLED中的發(fā)光器件發(fā)光效率的因素通常有:發(fā)光器件中存在淬滅中心導(dǎo)致激子不發(fā)光比例增加等。因此,如何能讓OLED發(fā)光材料在器件中發(fā)揮出其最大的性能有待于進(jìn)一步開發(fā)。
影響OLED中的發(fā)光器件壽命的因素主要有:器件中兩種材料之間形成的界面不穩(wěn)定,有機(jī)電致發(fā)光器件通常包含氧化銦錫(ITO)透明導(dǎo)電陽(yáng)極/發(fā)光層;發(fā)光層/發(fā)光層;發(fā)光層/金屬三種界面,發(fā)光器件在工作時(shí)引起的任何一個(gè)界面的特性變化及失效都會(huì)影響器件的壽命,高活性金屬原子擴(kuò)散至發(fā)光層中,形成發(fā)光中心淬滅,導(dǎo)致器件壽命快速衰減。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N發(fā)光器件和顯示裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)中由于活潑金屬原子擴(kuò)散至發(fā)光層、或發(fā)光層與其它層之間的界面中,形成猝滅中心或影響界面特性,容易導(dǎo)致發(fā)光器件發(fā)光效率或壽命低下的技術(shù)問題。
為了解決上述問題,本申請(qǐng)實(shí)施例主要提供如下技術(shù)方案:
在第一方面中,本申請(qǐng)實(shí)施例公開了一種發(fā)光器件,包括:依次設(shè)置的基板、陽(yáng)極、空穴注入層、第一空穴傳輸層、第一電子阻擋層、第一發(fā)光層、第一電子傳輸層、電子注入層以及陰極;
發(fā)光器件還包括:第一緩沖阻擋層,設(shè)置在所述第一發(fā)光層和所述電子注入層之間,用于阻擋預(yù)設(shè)金屬原子擴(kuò)散至所述發(fā)光器件中的第一發(fā)光層。
可選地,所述第一發(fā)光層為第一顏色發(fā)光層、第二顏色發(fā)光層或第三顏色發(fā)光層中的至少一種。
可選地,在所述第一電子傳輸層和所述第一緩沖阻擋層之間設(shè)置有N型電荷生成層,以及所述第一緩沖阻擋層與所述電子注入層之間依次設(shè)置有P型電荷生成層、第二空穴傳輸層、第二電子阻擋層、第二發(fā)光層和第二電子傳輸層。
可選地,所述發(fā)光器件還包括:在所述第一緩沖阻擋層和所述電子注入層之間依次設(shè)置有N型電荷生成層、P型電荷生成層、第二空穴傳輸層、第二電子阻擋層、第二發(fā)光層和第二電子傳輸層。
可選地,所述發(fā)光器件還包括:第二緩沖阻擋層,設(shè)置在所述N型電荷生成層和所述P型電荷生成層之間。
可選地,若所述第一緩沖阻擋層和所述第二緩沖阻擋層的材料都為所述無機(jī)材料,所述無機(jī)材料為三氧化鉬,氧化鋯、氧化鍶、氟化鋰、氯化鈉、氯化鉀中的一種。
可選地,所述第一緩沖阻擋層和所述第二緩沖阻擋層的厚度為0.1納米~20納米。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
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H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
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