[發(fā)明專利]一種低可見性觸控電極及其制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910933288.0
• 申請(qǐng)日: 2019-09-29
• 公開（公告）號(hào): CN110673762B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂鵬;張梓晗;劉威;任小勇;吳威樟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥微晶材料科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;H01L21/02
• 代理公司: 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 34101
• 代理人: 盧敏

1.一種低可見性觸控電極的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)提供掩膜版，所述掩膜版的透光部對(duì)應(yīng)觸控電極圖案、遮光部對(duì)應(yīng)各子觸控電極之間的間隙區(qū)域；

(2)在基板上形成感光涂層并烘干；

(3)采用所述掩膜版對(duì)所述感光涂層進(jìn)行曝光處理，再對(duì)曝光后感光涂層進(jìn)行顯影，形成圖案化感光涂層；所述圖案化感光涂層由多個(gè)間隔設(shè)置的子感光涂層部構(gòu)成，各子感光涂層部的位置對(duì)應(yīng)各子觸控電極之間的間隙區(qū)域；

通過控制步驟(2)中感光涂層的涂布厚度及烘干條件，和步驟(3)中的曝光及顯影條件，使各子感光涂層部沿垂直所述感光涂層方向的截面形狀呈倒梯形；

(4)在所述圖案化感光涂層上形成導(dǎo)電層；

(5)剝離圖案化感光涂層；隨著圖案化感光涂層的剝離，位于各子感光涂層部上方的導(dǎo)電層同時(shí)剝離，位于各子感光涂層部間隔區(qū)域的導(dǎo)電層保留，從而獲得觸控電極層，所述觸控電極層由多個(gè)間隔設(shè)置的子觸控電極構(gòu)成，各子觸控電極沿垂直所述觸控電極層方向的截面形狀呈梯形，所述梯形下底對(duì)應(yīng)的底角為15-25°，所述子觸控電極的材料為納米銀線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述感光涂層為正性光刻膠。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于：步驟(2)中，所述感光涂層的涂布厚度為5-8μm，烘干條件是在110℃烘120-150s。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于：步驟(3)中，所述曝光的曝光光積量為50-60mJ/cm²、曝光間距為120-140μm，所用顯影液中KOH濃度為0.6-1.5mol/L、顯影時(shí)間為30-90s。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述導(dǎo)電層的厚度為500-1000nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于：步驟(5)中剝離所述圖案化感光涂層的方法是通過去離子水噴淋。