[發明專利]一種用于提高管件變形均勻性的集磁器及其電磁成型裝置在審
| 申請號: | 201910931467.0 | 申請日: | 2019-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN110802156A | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發明(設計)人: | 崔曉輝;顏子欽;肖昂;喻海良;黃長清 | 申請(專利權)人: | 中南大學 |
| 主分類號: | B21D26/14 | 分類號: | B21D26/14 |
| 代理公司: | 長沙朕揚知識產權代理事務所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 文立興 |
| 地址: | 410083 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 提高 變形 均勻 集磁器 及其 電磁 成型 裝置 | ||
1.一種用于提高管件變形均勻性的集磁器,所述集磁器(2)為中心設置有通孔(6)的環狀結構,且該集磁器(2)上設置有一沿著所述通孔(6)的徑向貫通該集磁器(2)側壁的空隙(4),其特征在于,所述集磁器(2)位于通孔(6)的內壁上還設置有至少一個縫隙(5),所述縫隙(5)沿著所述通孔(6)的軸向延伸,該縫隙(5)和所述空隙(4)沿著所述通孔(6)的周向均勻設置。
2.根據權利要求1所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述集磁器(2)為一體式結構,所述縫隙(5)為設置在所述通孔(6)側壁上的槽結構,所述縫隙(5)的寬度與所述空隙(4)的寬度相同。
3.根據權利要求1所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述縫隙(5)為寬度與所述空隙(4)的寬度相同、且沿著所述通孔(6)的軸向貫通的通槽結構。
4.根據權利要求1-3任一所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述縫隙(5)的數量為3個,所述縫隙(5)與所述空隙(4)沿著所述通孔(6)的周向均勻設置。
5.根據權利要求1所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述集磁器(2)為分體式結構,該集磁器(2)包括多個分體集磁器(21),多個分體集磁器(21)形成一中心帶所述通孔(6)的環狀結構,相鄰所述分體集磁器(21)之間形成有所述空隙(4),所述分體集磁器(21)和空隙(4)均沿著所述通孔(6)中心對稱設置。
6.根據權利要求5所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,任一所述空隙(4)的寬度相同。
7.根據權利要求5所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述分體集磁器(21)的數量為沿著所述通孔(6)中心對稱設置的4個。
8.根據權利要求5所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述分體集磁器(21)位于所述通孔(6)的內壁上還設置有至少一個所述縫隙(5),所述縫隙(5)沿著所述通孔(6)的軸向延伸。
9.根據權利要求8所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器,其特征在于,所述縫隙(5)為寬度與所述空隙(4)的寬度相同、且沿著所述通孔(6)的軸向貫通的通槽結構。
10.一種電磁成型裝置,其特征在于,包括權利要求1-9任一項所述的用于提高管件變形均勻性的集磁器(2),靠近所述集磁器(2)的外壁設置有螺線管線圈(1)。
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