[發明專利]微影模擬方法在審
| 申請號： | 201910927935.7 | 申請日： | 2019-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN110967942A | 公開（公告）日： | 2020-04-07 |
| 發明（設計）人： | 田福安;黃旭霆;劉如淦;羅世翔 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 模擬 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種以微影模擬最佳化一微影模型的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
根據一給定布局形成一遮罩；
使用該遮罩列印一晶圓；
量測形成在列印的該晶圓上的一圖案；
使用一晶圓邊緣偏壓表及該給定布局來模擬一晶圓圖案；
獲得模擬的該晶圓圖案與量測的該圖案之間的一差異；及
根據該差異調整該晶圓邊緣偏壓表。
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