[發(fā)明專利]攝像模組及終端設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910927693.1 | 申請日: | 2019-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN112584001B | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 廖文哲;李明;馮軍 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | H04N23/54 | 分類號: | H04N23/54;H04N23/55;H04N23/50;H04N23/57;H04N23/67;H04M1/02 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永強;李稷芳 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 攝像 模組 終端設備 | ||
1.一種攝像模組,其特征在于,所述攝像模組包括兩個第一磁體,透鏡組,變焦線圈、第一補償線圈和傳感器,
所述兩個第一磁體分別位于所述透鏡組相對的兩側;
所述透鏡組包括第一軟膜透鏡;
所述變焦線圈與所述第一軟膜透鏡的軟膜相連;其中,所述變焦線圈在通電時,在所述兩個第一磁體形成的磁場作用下產生洛倫茲力,改變所述第一軟膜透鏡的形狀,從而改變所述第一軟膜透鏡的焦距;
所述傳感器用于接收通過所述透鏡組射入的光束;
所述第一補償線圈位于所述兩個第一磁體之間并設置于固定于鏡頭筒表面,且所述補償線圈的一端與所述變焦線圈一端相連,所述變焦線圈產生的力與所述第一補償線圈產生的力一一對應,其中,所述變焦線圈與所述第一補償線圈加載電流,所述第一軟膜透鏡的焦距改變以執(zhí)行光學變焦,同時通過所述第一補償線圈通電而產生的電流在磁場作用下產生洛倫茲力,所述洛倫茲力使第一補償線圈帶動所述鏡頭筒移動,所述鏡頭筒移動時帶動連接固定于所述鏡頭筒的所述透鏡組中部分透鏡移動位置,改變所述部分透鏡整體的相對位置從而改變所述攝像模組的像距進行對焦補償。
2.根據(jù)權利要求1所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括一面開口的環(huán)形筒,其中,所述傳感器固定于所述環(huán)形筒內與開口面相對的底面;所述兩個第一磁體分別固定于所述環(huán)形筒內,所述底面兩側的面上。
3.根據(jù)權利要求2所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括與所述環(huán)形筒連接的鏡頭筒,所述鏡頭筒與所述環(huán)形筒通過彈性裝置相連,所述透鏡組中至少一個透鏡與所述鏡頭筒相連。
4.根據(jù)權利要求3所述的攝像模組,其特征在于,所述第一軟膜透鏡包括軟膜形變區(qū)和透鏡固定區(qū),所述攝像模組還包括導電桿,滑動導電裝置和引線;
所述透鏡固定區(qū),用于將透鏡固定在所述鏡頭筒上;
所述導電桿位于所述透鏡固定區(qū),用于導電;
所述滑動導電裝置位于所述導電桿上;
所述引線分別連接所述變焦線圈和所述滑動導電裝置。
5.根據(jù)權利要求3或4所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括位于所述第一軟膜透鏡和所述第一磁體之間的第二磁體,所述第二磁體與所述第一磁體一一對應,所述第二磁體與對應的所述第一磁體的磁場方向相同。
6.根據(jù)權利要求5所述的攝像模組,其特征在于,所述第二磁體固定于所述鏡頭筒上。
7.根據(jù)權利要求6所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括第一調節(jié)線圈,其中,所述第一調節(jié)線圈位于所述兩個第一磁體之間,所述第一調節(jié)線圈的匝數(shù)少于第一補償線圈的匝數(shù),或者所述第一調節(jié)線圈的單圈長度小于第一補償線圈的單圈長度。
8.根據(jù)權利要求6所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括第二調節(jié)線圈,所述透鏡組還包括第二軟膜透鏡,
所述第二調節(jié)線圈與所述第二軟膜透鏡的軟膜相連;其中,所述第二調節(jié)線圈在通電時,在磁場作用下產生洛倫茲力,改變所述第二軟膜透鏡的形狀,使所述光束聚焦于所述傳感器上。
9.根據(jù)權利要求6所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括第二補償線圈,所述透鏡組還包括第三軟膜透鏡,
所述第二補償線圈與所述第三軟膜透鏡的軟膜相連;其中,所述第二補償線圈在通電時,在磁場作用下產生洛倫茲力,改變所述第三軟膜透鏡的形狀,從而改變所述攝像模組的像距。
10.根據(jù)權利要求9所述的攝像模組,其特征在于,所述攝像模組還包括位于所述第三軟膜透鏡和所述第一磁體之間的第三磁體,所述第三磁體與第一磁體一一對應,所述第三磁體與對應的所述第一磁體的磁場方向相同。
11.根據(jù)權利要求9所述的攝像模組,其特征在于,所述變焦線圈和所述第二補償線圈串聯(lián)。
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