[發(fā)明專利]高頻聲波諧振器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910925098.4 | 申請(qǐng)日： | 2019-09-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN110601674B | 公開（公告）日： | 2022-04-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 歐欣;王成立;張師斌;周鴻燕;黃凱 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào)： | H03H3/10 | 分類號(hào)： | H03H3/10 |
| 代理公司： | 上海泰博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31451 | 代理人： | 錢文斌 |
| 地址： | 200050 *** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 高頻 聲波 諧振器 及其 制備 方法 | ||
1.一種高頻聲波諧振器，其特征在于，所述高頻聲波諧振器至少包括：
支撐襯底；
位于所述支撐襯底上表面的圖案化介質(zhì)層；
位于所述圖案化介質(zhì)層表面的壓電膜；
位于所述壓電膜表面的圖案化上電極；
其中，所述圖案化介質(zhì)層的結(jié)構(gòu)包括第一介質(zhì)和排布于所述第一介質(zhì)中的空腔陣列；或者，所述圖案化介質(zhì)層的結(jié)構(gòu)包括第一介質(zhì)和排布于所述第一介質(zhì)中的第二介質(zhì)陣列，所述第一介質(zhì)與所述第二介質(zhì)的材料不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述第一介質(zhì)的材料包括絕緣材料、金屬材料中的任意一種或多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述第二介質(zhì)的材料包括二氧化硅、苯并環(huán)丁烯、聚酰亞胺、聚二甲基硅氧烷中的任意一種或多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述空腔的形狀包括矩形、梯形或不規(guī)則圖形中的任意一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述第二介質(zhì)的形狀包括矩形、梯形或不規(guī)則圖形中的任意一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述圖案化上電極的結(jié)構(gòu)包括叉指電極結(jié)構(gòu)、圓環(huán)形條狀電極結(jié)構(gòu)、扇形條狀電極結(jié)構(gòu)或多邊形板狀電極結(jié)構(gòu)中的一種或多種。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述叉指電極結(jié)構(gòu)包括第一連接部、第一叉指、第一獨(dú)立電極以及第二連接部、第二叉指、第二獨(dú)立電極；所述第一連接部與所述第二連接部平行間隔排布；所述第一叉指垂直固定于所述第一連接部上，所述第二叉指垂直固定于所述第二連接部上，所述第一叉指和第二叉指等間距交替間隔平行排布于所述第一連接部與第二連接部之間；所述第一獨(dú)立電極位于第一叉指的指端，與第一叉指互不相連；所述第二獨(dú)立電極位于第二叉指的指端，與第二叉指互不相連。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述第一獨(dú)立電極連接于所述連接部第二連接部，所述第二獨(dú)立電極連接于第一連接部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高頻聲波諧振器，其特征在于：所述壓電膜的厚度與所激發(fā)的高聲速?gòu)椥圆úㄩL(zhǎng)的比值為0.1～1.5。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述空腔在叉指的指條寬度方向上的最大寬度d與叉指的指條寬度w的比值為0.1～1。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高頻聲波諧振器，其特征在于，所述空腔在叉指的指條寬度方向上的最大寬度d與叉指的指條寬度w的比值為1～2。
12.一種高頻聲波諧振器的制備方法，其特征在于，所述高頻聲波諧振器的制備方法包括以下步驟：
1)提供一支撐襯底；
2)于所述支撐襯底的上表面形成圖案化介質(zhì)層；
3)于所述圖案化介質(zhì)層表面形成壓電膜；
4)于所述壓電膜表面形成圖案化上電極；
其中，2)中形成圖案化介質(zhì)層至少包括以下步驟：2-1)于所述支撐襯底上表面形成第一介質(zhì)，2-2)經(jīng)過(guò)光刻刻蝕工藝，于第一介質(zhì)中形成空腔陣列；或者，2)中形成圖案化介質(zhì)層至少包括以下步驟：2-1)于所述支撐襯底上表面形成第一介質(zhì)，2-2)經(jīng)過(guò)光刻刻蝕工藝，于第一介質(zhì)中形成空腔陣列，2-3)于所述空腔中填充第二介質(zhì)，第二介質(zhì)的材料與所述第一介質(zhì)的材料互不相同。
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