[發明專利]一種圖像比對的方法及其系統有效
| 申請號: | 201910922421.2 | 申請日: | 2019-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN110689532B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發明(設計)人: | 王慧英 | 申請(專利權)人: | 首都醫科大學附屬北京世紀壇醫院 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京卓特專利代理事務所(普通合伙) 11572 | 代理人: | 段宇 |
| 地址: | 100038 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 圖像 方法 及其 系統 | ||
1.一種圖像比對的方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
獲得目標圖像;
判斷目標圖像是否需要校正;判斷目標圖像是否需要校正包括,根據獲取的目標圖像進行投影后的像素值進行目標圖像是否需要校正的初步判斷,具體包括以下子步驟:將目標圖像劃分為若干個區域;計算對若干個區域進行正投影后的圖像像素值;進行目標圖像是否需要校正的初步校正判斷,其中將目標圖像各區域原本的像素值與進行正投影后的像素值進行差值計算,若某一區域的像素差值超過指定閾值,則初步判斷目標圖像中的所述區域需要校正;
若不需要校正,對目標圖像進行明暗劃分,根據劃分的區域完成圖像比對;若需要校正,則對目標圖像中相應的區域進行校正,在校正后去除區域劃分的標記,進行明暗區域的重新劃分;
其中對圖像校正包括以下子步驟:
確定反投影后的該區域的像素值;
確定像素值比例,根據像素值比例調整目標圖像中對應區域的像素值。
2.如權利要求1所述的圖像比對的方法,其特征在于,在進行對需要校正的區域進行校正之前,還包括,對經過初步校正判斷后的目標圖像進行進一步判斷,具體包括以下子步驟:
確定投影函數;
根據投影函數確定反投影密度函數;
根據反投影密度函數確定反投影函數;
判斷反投影函數與投影函數是否存在差異;
若存在差異,則對該目標圖像進行校正。
3.如權利要求2所述的圖像比對的方法,其特征在于,確定投影函數之前,還包括,以需要校正的區域中的某一點為圓心,建立投影坐標系。
4.如權利要求2所述的圖像比對的方法,其特征在于,在投影坐標系中的θ方向對需要校正的區域的投影函數Hθ(x,y)表示為:
其中(x,y)為在投影線與橫坐標夾角為θ時的橫縱坐標,δ(x,y)表示在二維斷層圖像中該區域的唯一的像點,dy表示進行積分運算。
5.一種圖像比對系統,其特征在于,具體包括:獲取單元、判斷單元、校正單元、劃分比對單元;
獲取單元,用于獲取目標圖像;
判斷單元,用于判斷目標圖像中是否存在需要校正的圖像;判斷目標圖像是否需要校正包括,根據獲取的目標圖像進行投影后的像素值進行目標圖像是否需要校正的初步判斷,具體包括以下子步驟:將目標圖像劃分為若干個區域;計算對若干個區域進行正投影后的圖像像素值;進行目標圖像是否需要校正的初步校正判斷,其中將目標圖像各區域原本的像素值與進行正投影后的像素值進行差值計算,若某一區域的像素差值超過指定閾值,則初步判斷目標圖像中的所述區域需要校正;
劃分比對單元,用于將校正后或不需要校正的目標圖像進行明暗的區域劃分,根據劃分的區域完成圖像比對;
校正單元,用于對目標圖像中需要校正的區域進行校正;在校正后去除區域劃分的標記,進行明暗區域的重新劃分;
其中對圖像校正包括以下子步驟:
確定反投影后的該區域的像素值;
確定像素值比例,根據像素值比例調整目標圖像中對應區域的像素值。
6.如權利要求5所述的圖像比對系統,其特征在于,判斷單元具體包括以下子模塊:區域劃分模塊、像素計算模塊;
區域劃分模塊,用于將目標圖像劃分若干個區域;
像素計算模塊,用于計算進行區域正投影后的圖像像素值。
7.如權利要求5所述的圖像比對系統,其特征在于,校正單元包括以下子模塊:正投影函數確定模塊、密度函數確定模塊、反投影函數確定模塊;
正投影函數確定模塊,用于確定投影函數;
密度函數確定模塊,用于根據投影函數確定反投影密度函數;
反投影函數確定模塊,用于根據反投影密度函數確定反投影函數。
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