[發明專利]指紋匹配方法、裝置、電子設備及介質有效
| 申請號: | 201910909957.0 | 申請日: | 2019-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN110659609B | 公開(公告)日: | 2022-09-16 |
| 發明(設計)人: | 譚江洪 | 申請(專利權)人: | OPPO(重慶)智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06V40/12 | 分類號: | G06V40/12;G06V10/40;G06V10/74;G06F21/32 |
| 代理公司: | 北京恒博知識產權代理有限公司 11528 | 代理人: | 范勝祥 |
| 地址: | 401120 重慶*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 指紋 匹配 方法 裝置 電子設備 介質 | ||
1.一種指紋匹配方法,其特征在于,包括:
獲取在正常曝光程度下可以實現預設指令對應功能的初始指紋特征圖像,獲取所述初始指紋特征圖像的圖像灰度值;
當接收到預設指令時,獲取在指紋識別區域識別的第一指紋特征圖像以及光感強度信息;
基于所述光感強度信息,得到所述第一指紋特征圖像的圖像灰度值;
根據所述初始指紋特征圖像的圖像灰度值與所述第一指紋特征圖像的圖像灰度值的差值結果,確定目標曝光參數;
當檢測到所述光感強度信息超過光強閾值時,獲取指紋面積信息,所述指紋面積信息為基于所述第一指紋特征圖像得到的信息;
檢測所述指紋面積信息是否超過預設面積閾值,得到比較結果;
獲取所述比較結果,利用目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成匹配結果;
其中,所述利用目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成匹配結果,包括:
基于所述目標曝光參數,確定曝光時間;
基于所述曝光時間,獲取在所述指紋識別區域識別的第二指紋特征圖像;
對所述第二指紋特征圖像進行匹配,生成所述匹配結果;
基于所述匹配結果,實現預設指令對應的功能。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述獲取所述比較結果,利用目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成所述匹配結果,包括:
當確定所述指紋面積信息超過所述預設面積閾值時,利用目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成所述匹配結果;或,
當確定所述指紋面積信息不超過所述預設面積閾值時,對所述第一指紋特征圖像進行剪裁處理,得到所述剪裁處理后的目標指紋特征圖像;
利用所述目標曝光參數,對所述目標指紋特征圖像進行匹配,生成所述匹配結果。
3.如權利要求2所述的方法,其特征在于,所述當確定所述指紋面積信息不超過所述預設面積閾值時,對所述第一指紋特征圖像進行剪裁處理,得到所述剪裁處理后的目標指紋特征圖像,包括:
當確定所述指紋面積信息不超過所述預設面積閾值時,獲取所述第一指紋特征圖像中的非指紋區域,所述非指紋區域為不包含指紋特征信息的區域;
將所述非指紋區域進行剪裁處理,得到所述目標指紋特征圖像。
4.如權利要求2或3所述的方法,其特征在于,所述利用目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成匹配結果,包括:
獲取預設的初始指紋特征圖像,所述初始指紋特征圖像為可以實現所述預設指令對應功能的指紋特征圖像;
基于所述光感強度信息,得到所述第一指紋特征圖像的圖像灰度值;
基于所述初始指紋特征圖像的圖像灰度值與所述第一指紋特征圖像的圖像灰度值的差值結果,確定所述目標曝光參數,所述目標曝光參數用于表征所述光感強度信息對所述第一指紋特征圖像的識別影響程度;
基于所述目標曝光參數,對所述第一指紋特征圖像進行匹配,生成所述匹配結果。
5.如權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述當檢測到所述光感強度信息超過光強閾值時,獲取指紋面積信息之后,還包括:
獲取目標發光區域的光照亮度,所述目標發光區域為可以照射到所述指紋識別區域的發光區域;
基于所述光感強度信息,調低所述目標發光區域的光照亮度。
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