[發明專利]能夠在I線高產酸的磺酰亞胺類光產酸劑

有效

• 申請號: 201910908573.7
• 申請日: 2019-09-25
• 公開（公告）號: CN112558409B
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 錢曉春;胡春青;龔艷;劉葛
• 申請（專利權）人: 常州強力先端電子材料有限公司;常州強力電子新材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;C09D11/03;C09D11/38;C09D7/63;C07D209/48;C07D403/04;C07D401/04;C07D209/86;C07D409/04;C07D417/04;C07D413/04;C07D209/88
• 代理公司: 北京漢德知識產權代理事務所(普通合伙) 11328
• 代理人: 劉子文;徐馳

1.一種能夠在I線高產酸的磺酰亞胺類光產酸劑，具有通式(A)所示結構：

其中，

R₁為C₁-C₆的直鏈或支鏈的全氟代烷基、全氟代苯基、至少一個氫原子被C₁-C₆的烷基或氟代烷基所取代的苯基、或樟腦基；

L為連接位在N原子上的吡咯基、吲哚基、1,2-二氫喹啉基、嗎啉基、咪唑基或咔唑基，任選地，L上的至少一個氫原子可以被R₂所取代；其中，

R₂選自下列基團：

鹵素；

C₁-C₂₀的直鏈或支鏈的烷基或鹵代烷基，任選地，其中的-CH₂-可以被-O-或-S-所取代；

苯基，任選地，其中的至少一個氫原子可以被C₁-C₄的烷基所取代；

C₇-C₁₀的苯基烷基，任選地，其中的-CH₂-可以被-O-所取代；

R₁’-CO-，其中R₁’表示C₁-C₆的烷基、苯基，且任選地，苯基中的至少一個氫原子可以被C₁-C₄的烷基或烷氧基所取代；

R₂’-CO-O-R₃’-，其中R₂’表示C₁-C₈的烷基、苯基，R₃’表示單鍵或C₃-C₄的炔基,并且所述烷基中的-CH₂-可任選地被-O-所取代，所述苯基中的至少一個氫原子可任選地被C₁-C₄的烷基所取代；

C₂-C₆的直鏈或支鏈的烯基，任選地，其中的-CH₂-可以被-O-所取代；

以C₆-C₁₀的芳基為封端的C₂-C₄的烯基；

C₂-C₆的直鏈或支鏈的炔基；

以C₆-C₁₀的芳基為封端的C₂-C₄的炔基；

C₁-C₆的烷基磺酰氧基，任選地，烷基上的氫可以被氟原子所取代；

或C₆-C₁₀的芳基磺酰氧基；

并且當R₂的數量大于1時，它們可彼此相同或不同。

2.根據權利要求1所述的磺酰亞胺類光產酸劑，其特征在于：所述鹵素為氟、氯、溴或碘原子。

3.根據權利要求1所述的磺酰亞胺類光產酸劑，其特征在于，選自下列結構：

4.一種酸產生方法，其特征在于：對權利要求1-3中任一項所述的磺酰亞胺類光產酸劑照射活性能量射線。

5.根據權利要求4所述的酸產生方法，其特征在于：所述活性能量射線為近紫外光區域、可見光區域的波長在300-450nm之間的活性能量射線。

6.根據權利要求5所述的酸產生方法，其特征在于：所述活性能量射線為波長365nm的活性能量射線。

7.權利要求1-3中任一項所述的磺酰亞胺類光產酸劑在制備涂料、涂敷劑、油墨、抗蝕膜、液態抗蝕劑、負型抗蝕劑、正型抗蝕劑、MEMS用抗蝕劑、負型感光性材料、立體光刻和微立體光刻用材料中的應用。