[發明專利]一種同時觀測晶體形貌及測量晶體周圍濃度場的裝置

在審

• 申請號: 201910904388.0
• 申請日: 2019-09-24
• 公開（公告）號: CN110579474A
• 公開（公告）日: 2019-12-17
• 發明（設計）人: 戴國亮;史建平
• 申請（專利權）人: 中國科學院力學研究所
• 主分類號: G01N21/84
• 分類號: G01N21/84;G01N21/01
• 代理公司: 11390 北京和信華成知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 席卷

1.一種同時觀測晶體形貌及測量晶體周圍濃度場的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一光源、輔助聚光鏡、第二光源、反射鏡、視場光闌、第一透鏡、樣品晶體、第二透鏡、相板、刀口、第三透鏡、分光棱鏡、目鏡、CCD；

其中，第一光源、輔助聚光鏡、反射鏡、視場光闌、第一透鏡、樣品晶體、第二透鏡、相板、刀口、第三透鏡、分光棱鏡、CCD以水平線為基準，以預設間距依次排開；

第二光源在反射鏡上方或者下方，目鏡在分光棱鏡斜上方或者斜下方；

視場光闌、相板、分光棱鏡在同一模塊進行固定，刀口、第三透鏡在同一模塊進行固定。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一光源包括激光光源。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第二光源包括LED光源。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述反射鏡包括雙層鋁膜平面反射鏡。

5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述雙層鋁膜平面反射鏡設計成翻轉式。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，在將所述雙層鋁膜平面反射鏡翻轉至水平線，且所述裝置切換至視場光闌、相板、分光棱鏡所在模塊的情況下，激光光源發出的激光經所述輔助聚光鏡成像于所述第一透鏡的所述視場光闌上，穿透所述視場光闌的激光經所述第一透鏡形成傾斜的平行激光，并照射樣品晶體，穿透所述樣品晶體的激光經第二透鏡匯聚到所述相板，穿透所述相板的激光經所述分光棱鏡形成兩路激光，其中一路激光直接穿過所述分光棱鏡成像于所述CCD，另一路激光由所述分光棱鏡分光面以及底面反射后通過所述目鏡，供用戶觀察。

7.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，在將所述雙層鋁膜平面反射鏡翻轉至與水平線呈現一定夾角，且所述裝置切換至刀口、第三透鏡所在模塊的情況下，LED光源發出的光經所述雙層鋁膜平面反射鏡成像于所述第一透鏡，經所述第一透鏡形成平行光，并照射樣品晶體，穿透所述樣品晶體的光經所述第二透鏡聚焦于所述刀口，穿透所述刀口的光成像于所述第三透鏡，穿透所述第三透鏡的光成像于所述CCD。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述LED光源功率10W。

9.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述第一透鏡直徑100mm，焦距500mm。

10.根據權利要求9所述的裝置，其特征在于，所述第二透鏡直徑50.8mm，焦距500mm。