[發(fā)明專利]一種偏振元件及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910901965.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110632697B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊陳楹;沈偉東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州燈之塔科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30 |
| 代理公司: | 杭州知閑專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33315 | 代理人: | 黃燕 |
| 地址: | 310012 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 偏振 元件 及其 制備 方法 | ||
1.一種偏振元件,其特征在于,包括:
基底;
依次沉淀在基底上的一個(gè)或多個(gè)高低折射率膜堆;
每個(gè)高低折射率膜堆由若干高折射率膜層和低折射率膜層交替疊堆,其中高折射率膜層和低折射率膜層中至少有一層為各向異性膜層;
所有膜層對(duì)某一特定方向的偏振光折射率相等;
所述高折射率膜層為各向同性膜層或各向異性膜層;所述低折射率膜層為各向同性膜層或各向異性膜層;各向異性膜層由傾斜蒸鍍物理氣相沉積、傾斜蒸鍍化學(xué)氣相沉積、溶液法通過構(gòu)造ZIG-ZAG各向異性形狀制備得到;
高低折射率膜堆數(shù)量為2~20個(gè),相鄰兩個(gè)膜堆之間設(shè)有各向同性的間隔層,間隔層為高折射率膜層材料或者低折射率膜層材料,且與相鄰的膜層材料不同;間隔層厚度為λ12/(4n12),其中λ12為相鄰兩個(gè)膜堆的參考波長的平均值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振元件,其特征在于,定義任一光束由第一方向偏振光和第二方向偏振光組成,所有特定方向的偏振光為第一方向偏振光。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏振元件,其特征在于,所述基底的折射率與膜層對(duì)第一方向偏振光的折射率相同或相近。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏振元件,其特征在于,高折射率膜層厚度為λ0/(4nH2),低折射率膜層厚度為λ0/(4nL2),nH2為高折射率膜層對(duì)第二方向偏振光的折射率,nL2為低折射率膜層對(duì)第二方向偏振光的折射率,λ0為對(duì)應(yīng)膜堆的參考波長。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振元件,其特征在于,每個(gè)高低折射率膜堆中膜層數(shù)為3~201層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振元件,其特征在于,各向同性膜層由物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、電鍍法、溶液法制備得到。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振元件,其特征在于,各向異性膜層由傾斜蒸鍍物理氣相沉積法制備得到,樣品臺(tái)法線與蒸發(fā)源法線夾角為60°~70°。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振元件,其特征在于,所有膜層均經(jīng)過高溫退火或快速退火處理。
9.一種權(quán)利要求1~8任一項(xiàng)所述的偏振元件的制備方法,其特征在于,包括:
(1)根據(jù)目標(biāo)偏振方向光的中心波長和帶寬要求,確定膜堆數(shù)量以及每個(gè)膜堆中膜層數(shù)量以及匹配的高低折射率膜層材料,最后確定膜層制備參數(shù);
(2)前處理基底;
(3)按照確定的膜層制備參數(shù)依次沉淀各膜層。
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