[發明專利]一種防止反濺液體污染基板的裝置及方法

在審

• 申請號: 201910891034.7
• 申請日: 2019-09-20
• 公開（公告）號: CN112542397A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 陳興隆;鄭云龍
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 白振宇

1.一種防止反濺液體污染基板的裝置，包括電機、承載臺、升降CUP、噴嘴及擺臂，其中電機的輸出端與承載臺相連、驅動承載臺旋轉，該承載臺上放置有隨承載臺旋轉的基板，所述電機外圍設有可升降的升降CUP；所述噴嘴通過擺臂的帶動在升降CUP內側與外側之間移動，該噴嘴連接有進液管路B，通過所述進液管路B向噴嘴輸送對基板進行工藝處理的液體B；其特征在于：所述噴嘴(4)上安裝有防濺罩(6)，該防濺罩(6)的上端與噴嘴(4)相連，下端為開放結構，所述防濺罩(6)上開設有至少一個進液管(7)，進液管(7)連接有進液管路A，通過該進液管路A向所述防濺罩(6)內部輸送液體A，液體A在防濺罩(6)的內表面形成有液體膜(11)；所述噴嘴(4)向基板(12)表面噴灑液體B，在基板(12)表面形成反濺的液體B反濺至所述液體膜(11)，并隨液體膜(11)流到基板(12)表面，隨基板(12)的旋轉脫離基板(12)。

2.根據權利要求1所述防止反濺液體污染基板的裝置，其特征在于：所述進液管(7)的軸向與防濺罩(6)的切向相同，進入的液體A沿防濺罩(6)的切向流入，并在離心力的作用下在所述防濺罩(6)的內表面形成連續不間斷的液體膜(11)。

3.根據權利要求2所述防止反濺液體污染基板的裝置，其特征在于：所述進液管(7)開設在防濺罩(6)的上端，所述液體膜(11)完全覆蓋防濺罩(6)的內表面。

4.根據權利要求2所述防止反濺液體污染基板的裝置，其特征在于：所述防濺罩(6)的軸向截面為矩形或梯形，該防濺罩(6)的徑向截面為圓形或橢圓形。

5.根據權利要求1所述防止反濺液體污染基板的裝置，其特征在于：所述進液管路A(9)上安裝有調節液體A流速的調速閥(8)，或者，所述進液管(7)處安裝有調速閥(8)，所述進液管路A(9)通過該調速閥(8)與進液管(7)相連通。

6.根據權利要求1所述防止反濺液體污染基板的裝置，其特征在于：所述防濺罩(6)的下端端部高于基板(12)，且該防濺罩(6)的下端端部位于所述噴嘴(4)下端端部的下方。

7.一種權利要求1至6任一權利要求所述防止反濺液體污染基板的方法，其特征在于：所述基板(12)位于承載臺(2)上，隨承載臺(12)在電機(1)的驅動下旋轉，所述噴嘴(4)在擺臂(5)的帶動下移動至基板(12)的上方；液體A經所述進液管(7)進入防濺罩(6)內，并在離心力的作用下在所述防濺罩(6)的內表面形成液體膜(11)，該液體膜(11)向下流到所述基板(12)的表面，隨基板(12)的旋轉而脫離基板(12)；

液體B(10)通過所述噴嘴(4)噴灑至基板(12)的表面上，對基板(12)進行工藝處理，并隨所述基板(12)的旋轉而脫離基板(12)；在液體B(10)噴灑過程中，由所述基板(12)表面形成反濺的液體B(10)反濺至防濺罩(6)內表面的液體膜(11)，并隨該液體膜(11)流至基板(12)的表面，再隨基板(12)的旋轉而脫離基板(12)。