[發(fā)明專利]一種鍍膜夾層玻璃內(nèi)標(biāo)識的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910890343.2 | 申請日: | 2019-09-20 |
| 公開(公告)號: | CN110550873A | 公開(公告)日: | 2019-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃友奇;吳志遠(yuǎn);徐馳;曹文龍 | 申請(專利權(quán))人: | 中國建筑材料科學(xué)研究總院有限公司 |
| 主分類號: | C03C27/12 | 分類號: | C03C27/12;C03C17/23;B23K26/362 |
| 代理公司: | 11348 北京鼎佳達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 劉鐵生;孟阿妮 |
| 地址: | 100024*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 夾層玻璃 鍍膜 制備 唯一性標(biāo)識 玻璃本體 玻璃結(jié)構(gòu) 產(chǎn)品生產(chǎn) 鍍膜層 刻蝕 內(nèi)層 磨損 損傷 隔離 清晰 外部 檢驗(yàn) | ||
1.一種鍍膜夾層玻璃內(nèi)標(biāo)識的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
從鍍膜夾層玻璃的外表面一側(cè)對鍍膜夾層玻璃內(nèi)的鍍膜層進(jìn)行刻蝕,在指定位置制備出內(nèi)標(biāo)識。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述刻蝕為激光物理刻蝕。
3.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述激光物理刻蝕的參數(shù)設(shè)置如下:激光器波長為1064nm、532nm或0-380nm,輸出功率范圍為0-100W,刻蝕線寬范圍為0-10mm。
4.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,還包括在激光刻蝕前鍍膜夾層玻璃制備的步驟。
5.如權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述鍍膜夾層玻璃制備的步驟包括:
1)在外玻璃結(jié)構(gòu)層的內(nèi)表面、或內(nèi)玻璃結(jié)構(gòu)層的外表面沉積鍍膜層;
2)按外玻璃結(jié)構(gòu)層、有機(jī)粘結(jié)層、內(nèi)玻璃結(jié)構(gòu)層的順序進(jìn)行熱壓層合,得到鍍膜夾層玻璃。
6.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述外玻璃結(jié)構(gòu)層選自單片無機(jī)玻璃或夾層玻璃的一種;所述有機(jī)粘結(jié)層選自PVB膠片、PU膠片、TPU膠片、PVS膠片、EVA膠片或SGP膠片中的至少一種;所述內(nèi)玻璃結(jié)構(gòu)層選自單片無機(jī)玻璃、夾層玻璃、中空玻璃或真空玻璃中的至少一種。
7.如權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述鍍膜層為連續(xù)的單層膜或復(fù)合膜,其厚度為100-600nm。
8.如權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述單層膜選自金屬類薄膜或透明導(dǎo)電氧化物類薄膜;所述復(fù)合膜為包含單層金屬類薄膜或透明導(dǎo)電氧化物類薄膜的多層組合膜系。
9.如權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述金屬類薄膜選自Au膜、Ag膜、Cu膜、Fe膜、Ni膜、Go膜或合金膜的一種;所述透明導(dǎo)電氧化物類薄膜選自ITO薄膜、AZO薄膜或FTO薄膜的一種;所述復(fù)合膜選自Low-E膜或減反膜系。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國建筑材料科學(xué)研究總院有限公司,未經(jīng)中國建筑材料科學(xué)研究總院有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910890343.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:玻璃制品
- 下一篇:一種低排放全工業(yè)廢渣制硅酸鹽水泥熟料的配料方法





