[發明專利]一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法

有效

• 申請號: 201910889712.6
• 申請日: 2017-05-28
• 公開（公告）號: CN110722769B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 鮑軍民
• 申請（專利權）人: 浙江商業職業技術學院
• 主分類號: B29C48/92
• 分類號: B29C48/92;B29C48/08;B29C48/00;G01B21/08;B29L7/00
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• 代理人: 暫無信息

1.一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，包如下步驟：

F1)根據測厚儀掃描周期設定單個矩形刻槽的刻印周期，設定刻槽的寬度、長度和單次橫向刻槽群的刻槽數M，隨機選擇t0值；

F2)從t0時刻開始刻印刻槽群，刻槽群中每個矩形刻槽的刻印周期為Tr，且Tr＝Tq/k，其中，刻槽群周期Tq取值使得測厚儀單程從一邊移動到另一邊的時間等于Tq的整數倍；

F3)獲取測厚儀的剖面曲線，判斷是否檢測到刻槽？如果是則轉下一步F4，否則等待；

F4)判斷在一個刻槽群刻印周期Tq內，是否僅檢測到兩個不同深度的刻槽？如果是則轉下一步F5，否則轉F6；

F5)提取被連續檢測到的兩個刻槽的深度值，判斷第一刻槽深度是否大于第二刻槽深度？如果是，則將每周期的刻印開始時刻提前：t0＝t0-t1，否則，將每周期的刻印開始時刻推后：t0＝t0+t2，其中，t1和t2均小于Tq/2；然后，轉步驟F2，重復開始一次刻槽群的刻印；

F6)同步完成，結束。

2.根據權利要求1所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述步驟F2)包括以下處理：

F21)初始工位準備，從t0時刻開始刻印第一個刻槽，記錄下開始時刻t0＝t；

F22)刻槽深度按增量增加，在與上一工位橫向和縱向上均相鄰的新工位上刻印矩形刻槽；

F23)判斷M個刻槽是否均已刻印完畢？如果是轉下一步s5，否則轉s3。

3.根據權利要求1所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述刻槽的深度線性增加，每次增加一個相同的量，M個刻槽疊加后從正面看形成一個直線斜坡。

4.根據權利要求1所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述刻槽的深度非線性增加，每次增加量逐步減小，M個刻槽疊加后從正面看形成一個倒拋物線斜坡。

5.根據權利要求1所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述矩形刻槽的寬度dx和深度增量dz分別為印記整體寬度Lx和深度Lz的1/k，而其長度dy則可以選擇為：

使得相鄰矩形刻槽在縱向上相鄰或部分重合，從而使得同步后測厚儀能連續檢測到矩形刻槽；其中，Vy為薄膜縱向移動速度，Vx為刻槽群中刻槽印記橫向來回移動速度進行。

6.根據權利要求2所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述步驟F22中刻槽深度線性增加，每次增加一個相同的量，且使得最大刻槽深度為所刻印鑄片厚度的0.05至0.1倍。

7.根據權利要求2所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，所述步驟F22中刻槽深度按倒拋物線非線性增加，且使得最大刻槽深度為所刻印鑄片厚度的0.05至0.1倍。

8.根據權利要求1所述的一種膜厚測量輔助定位裝置與測厚儀的同步方法，其特征在于，假設所檢測到的刻槽的深度對應為M個序列中的第p個，則所述t1即時間提前量和t2即推后量均可按下式計算：