[發明專利]一種成像質量分析方法及其裝置

有效

• 申請號: 201910887931.0
• 申請日: 2019-09-19
• 公開（公告）號: CN110533662B
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 張碩;張浩;陳麗莉;薛鴻臻;楚明磊;閆桂新;孫玉坤;趙晨曦;董澤華;彭項君;呂耀宇;薛亞沖;何惠東;范清文
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262
• 代理人: 解婷婷;曲鵬

一種成像質量分析方法及其裝置，應用于成像系統中，成像系統包括：空間光調制器，空間光調制器包括：陣列設置的像素單元，其中，該方法包括：根據像素單元的結構參數，獲得空間光調制器的透過率分布函數；結構參數為開口率；根據空間光調制器的透過率分布函數獲得成像系統的成像質量分析參數；根據成像質量分析參數對成像系統的成像質量進行分析。本申請提供的成像質量分析方法通過考慮像素結構的結構參數以對成像系統的成像系統進行分析，使得成像質量的分析更為精確。

技術領域

本文涉及光學技術領域，具體一種成像質量分析方法及其裝置。

背景技術

近些年來，隨著計算機技術的不斷發展，全息投影顯示逐漸成為國內外三維立體顯示領域的研究熱點之一。全息投影顯示通過計算機生成全息圖，然后加載到空間光調制器上并利用激光照射形成衍射圖像，它能夠完整記錄和重建三維物體，提供人眼視覺系統所需的全部深度信息。空間光調制器的受控單元為獨立的像素單元，每個單元可獨立接收光信號或電信號等控制信號。

在進行全息投影時，激光射入空間光調制器中時發生衍射現象進而形成衍射圖像，相關技術中通過對成像質量進行分析來預見成像時可能會產生的問題，以在成像時進行消除。經發明人研究發現，相關技術中的成像質量分析方法未考慮像素單元的開口率對成像質量的影響，然而對于部分空間光調制器而言，像素單元的開口率的影響是不可忽視的，因此，采用相關技術中的成像質量分析方法對該類空間光調制器進行分析時精度不高。

發明內容

本申請提供了一種成像質量分析方法及其裝置，考慮了像素單元的開口率對成像質量的影響，提高了成像質量分析精度。

第一方面，本申請提供了一種成像質量分析方法，應用于成像系統中，成像系統包括：空間光調制器，所述空間光調制器包括：陣列設置的像素單元，所述方法包括：

根據像素單元的結構參數，獲得空間光調制器的透過率分布函數；所述結構參數為開口率；

根據空間光調制器的透過率分布函數獲得成像系統的成像質量分析參數；

根據成像質量分析參數對所述成像系統的成像質量進行分析。

可選地，所述成像系統還包括：光源器件、成像器件和控制器件；

所述光源器件用于向空間光調制器發射激光；所述控制器件，與所述空間光調制器電連接，用于向空間光調制器輸入相位圖，以使得空間光調制器通過相位圖調制透過其光線的相位；所述成像器件用于根據空間光調制器射出的光線成像。

可選地，所述成像質量分析參數包括：成像器件上的光強分布和空間光調制器的衍射效率。

可選地，所述根據像素單元的結構參數，獲得空間光調制器的透過率分布函數包括：

根據像素單元的開口率，獲得像素單元的開口邊長；

根據所述像素單元的開口邊長，獲得空間光調制器在空域上的透過率分布函數。

可選地，所述根據像素單元的開口率，獲得像素單元的開口邊長包括：

根據像素單元的開口率和像素單元的邊長，采用公式：

獲得像素單元的開口邊長Δx′，其中，K為像素單元的開口率，Δx為像素單元的邊長。

可選地，所述空間光調制器包括：第一狀態和第二狀態，其中，第一狀態為未向空間光調制器未施加電壓時的狀態，第二狀態為向空間光調制器施加電壓時的狀態；

當空間光調制器處于第一狀態時，所述根據所述像素單元的開口邊長，獲得空間光調制器在空域上的透過率分布函數包括：

根據像素單元的開口邊長，采用公式