[發(fā)明專利]抗蝕劑組合物和圖案化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910880802.9 | 申請日: | 2019-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN110908243B | 公開(公告)日: | 2023-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 畠山潤;大橋正樹;藤原敬之 | 申請(專利權(quán))人: | 信越化學工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 杜麗利 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 抗蝕劑 組合 圖案 方法 | ||
1.抗蝕劑組合物,其包含含有具有式(1)的锍鹽的產(chǎn)酸劑:
其中,R1為單鍵或C1-C20二價脂族烴基,
R2為單鍵,
L1為酯鍵、醚鍵或酰胺鍵,
L2為單鍵、酯鍵、醚鍵或酰胺鍵,
L3為單鍵,
R3為羥基、氟、氯、溴、-NR3A-C(=O)-R3B或-NR3A-C(=O)-O-R3B,其中R3A為氫或可以含有鹵素、羥基、C1-C10烷氧基、C2-C10酰基或C2-C10酰氧基的C1-C6烷基,R3B為C1-C16烷基、C2-C16烯基或C6-C12芳基,其可以含有鹵素、羥基、C1-C10烷氧基、C2-C10酰基或C2-C10酰氧基,
R4為C1-C20烷基,
R5為可以含有雜原子的C1-C20烷基、C2-C20烯基、C2-C24炔基、C6-C20芳基、C7-C20芳烷基及其組合,在r=1的情況下,兩個R5可以相同或不同并且可以鍵合在一起以與它們所連接的硫原子形成環(huán),
X-為氟化的磺酸根、氟化的酰亞胺或氟化的甲基陰離子,
m為1至5的整數(shù),n為0至3的整數(shù),m+n之和為1至5,p為0或1,q為0至4的整數(shù),和r為1至3的整數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物,其中m為2至5的整數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物,其還包含有機溶劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物,其還包含基礎(chǔ)聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的抗蝕劑組合物,其中所述基礎(chǔ)聚合物包含具有式(a1)的重復單元或具有式(a2)的重復單元:
其中,RA各自獨立地為氫或甲基,Y1為單鍵、亞苯基、亞萘基或含有酯鍵或內(nèi)酯環(huán)的C1-C12連接基,Y2為單鍵或酯鍵,R11和R12各自為酸不穩(wěn)定性基團,R13為氟、三氟甲基、氰基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C7酰基、C2-C7酰氧基或C2-C7烷氧基羰基,R14為單鍵或其中部分碳可以被醚鍵或酯鍵替換的C1-C6直鏈或支鏈的烷烴二基,a為1或2,b為0至4的整數(shù),a+b之和為1至5。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的抗蝕劑組合物,其為化學增幅正型抗蝕劑組合物。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





