[發明專利]抗蝕劑組合物和圖案化方法

有效

• 申請號: 201910880802.9
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN110908243B
• 公開（公告）日: 2023-09-15
• 發明（設計）人: 畠山潤;大橋正樹;藤原敬之
• 申請（專利權）人: 信越化學工業株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 杜麗利

1.抗蝕劑組合物，其包含含有具有式(1)的锍鹽的產酸劑：

其中，R¹為單鍵或C₁-C₂₀二價脂族烴基，

R²為單鍵，

L¹為酯鍵、醚鍵或酰胺鍵，

L²為單鍵、酯鍵、醚鍵或酰胺鍵，

L³為單鍵，

R³為羥基、氟、氯、溴、-NR^3A-C(＝O)-R^3B或-NR^3A-C(＝O)-O-R^3B，其中R^3A為氫或可以含有鹵素、羥基、C₁-C₁₀烷氧基、C₂-C₁₀酰基或C₂-C₁₀酰氧基的C₁-C₆烷基，R^3B為C₁-C₁₆烷基、C₂-C₁₆烯基或C₆-C₁₂芳基，其可以含有鹵素、羥基、C₁-C₁₀烷氧基、C₂-C₁₀酰基或C₂-C₁₀酰氧基，

R⁴為C₁-C₂₀烷基，

R⁵為可以含有雜原子的C₁-C₂₀烷基、C₂-C₂₀烯基、C₂-C₂₄炔基、C₆-C₂₀芳基、C₇-C₂₀芳烷基及其組合，在r＝1的情況下，兩個R⁵可以相同或不同并且可以鍵合在一起以與它們所連接的硫原子形成環，

X^-為氟化的磺酸根、氟化的酰亞胺或氟化的甲基陰離子，

m為1至5的整數，n為0至3的整數，m+n之和為1至5，p為0或1，q為0至4的整數，和r為1至3的整數。

2.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中m為2至5的整數。

3.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其還包含有機溶劑。

4.根據權利要求1所述的抗蝕劑組合物，其還包含基礎聚合物。

5.根據權利要求4所述的抗蝕劑組合物，其中所述基礎聚合物包含具有式(a1)的重復單元或具有式(a2)的重復單元：

其中，R^A各自獨立地為氫或甲基，Y¹為單鍵、亞苯基、亞萘基或含有酯鍵或內酯環的C₁-C₁₂連接基，Y²為單鍵或酯鍵，R¹¹和R¹²各自為酸不穩定性基團，R¹³為氟、三氟甲基、氰基、C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷氧基、C₂-C₇酰基、C₂-C₇酰氧基或C₂-C₇烷氧基羰基，R¹⁴為單鍵或其中部分碳可以被醚鍵或酯鍵替換的C₁-C₆直鏈或支鏈的烷烴二基，a為1或2，b為0至4的整數，a+b之和為1至5。

6.根據權利要求5所述的抗蝕劑組合物，其為化學增幅正型抗蝕劑組合物。