[發明專利]一種高分子兩性表面活性劑在控油、去屑或止癢方面的應用在審
| 申請號: | 201910879634.1 | 申請日: | 2019-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN110693760A | 公開(公告)日: | 2020-01-17 |
| 發明(設計)人: | 魏煥曹;童仕潮;李小敏 | 申請(專利權)人: | 廣東靈捷制造化工有限公司 |
| 主分類號: | A61K8/81 | 分類號: | A61K8/81;A61Q5/02;A61Q5/00;A61K31/785;A61P17/04 |
| 代理公司: | 44202 廣州三環專利商標代理有限公司 | 代理人: | 顏希文 |
| 地址: | 511500 廣東省清*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 兩性表面活性劑 頭皮 出油 控油 去屑 頭屑 止癢 醫藥領域 洗發露 化妝品 應用 發現 研究 | ||
本發明提供了一種高分子兩性表面活性劑在控油、去屑或止癢方面的應用,是基于專利CN104961856B公開的高分子兩性表面活性劑的應用,屬于化妝品和醫藥領域。經研究發現,該專利公開的高分子兩性表面活性劑具有優異的控油、去屑和止癢的功效,頭屑患者和頭皮出油嚴重的患者在分別使用含有該高分子兩性表面活性劑的洗發露后,頭屑以及頭皮出油問題都得到了非常明顯的改善。
技術領域
本發明屬于化妝品和醫藥領域,涉及一種高分子兩性表面活性劑在控油、去屑或止癢方面的應用,尤其是涉及專利CN104961856B公開的高分子兩性表面活性劑高在控油、去屑或止癢方面的應用。
背景技術
對于溢脂性頭皮,由于頭皮分泌油脂過多,導致容易產生細菌,從而引發頭屑、頭癢、脫發等一系列問題。而我國約有60%的成年人不同程度地受到頭皮油脂分泌過盛、頭屑過多等問題的困擾,其中重癥約有15%,比例遠超歐美國家。為解決這些問題,人們在洗發露中添加了去屑劑、抑菌劑等功能性添加劑,如吡啶硫酸銅鋅(ZPT)、酮康唑、甘寶素等,但這些洗發露的控油去屑止癢效果并不理想。
專利CN104961856B公開的高分子兩性表面活性劑已被報道過具有增稠和起泡的功效,但未被報道過其有控油、去屑或止癢的功效。
發明內容
為了克服現有技術的上述缺點與不足,本發明的目的在于提供一種高分子兩性表面活性劑在控油、去屑或止癢方面的應用。
為實現上述目的,本發明采用的技術方案為:
第一方面,本發明提供了一種高分子兩性表面活性劑作為控油、去屑或止癢的功效物質在制備控油、去屑或止癢產品中的應用,其中,所述高分子兩性表面活性劑經以下步驟制備而成:以干重計按5~50%的大分子單體、30~90%的水溶性陰離子單體、1~20%的陽離子單體的比例,與水配制成固含量為10~50%的水溶液,加入引發劑,在60~100℃下聚合4~12小時;
其中,所述的大分子單體的結構通式為:R1O(CH2CH2O)nCH2CH(OH)R2,其中:R1為直鏈C9~C15烷基,n=3~15,R2為CH2CH2CH=CH2、CH2CH=CH2、CH=CH2、CH2OCH2CH=CH2、CH2OCH=CH2或OCH=CH2;
所述的水溶性陰離子單體是選自如下一組物質中一種以上:丙烯酸、甲基丙烯酸、順酐、馬來酸和衣康酸;
所述的陽離子單體是選自如下一組物質中一種以上:二甲基二烯丙基氯化銨、丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、丙烯酸二乙氨基乙酯、甲基丙烯酸二乙氨基乙酯、丙烯酸二甲氨基乙酯氯化芐、甲基丙烯酸二甲氨基氯化芐、丙烯酰氧乙基三甲基氯化銨、甲基丙烯酰氧乙基三甲基氯化銨、丙烯酸二甲氨基乙酯氯化銨、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯氯化銨、一烯丙基胺、二烯丙基胺和三烯丙基胺。申請人在研發產品時意外發現,所述高分子兩性表面活性劑具有非常優異的控油、去屑以及止癢作用,將其添加到洗發露或藥物中,能明顯改善頭皮出油、發癢以及頭屑的問題。
作為本發明所述應用的優選實施方式,以所述產品的總重量為基準計算,所述高分子兩性表面活性劑占3~8%。申請人發現當所述高分子兩性表面活性劑的含量為3~8%時,制得的產品的控油、去屑、止癢效果要比其含量在該范圍之外時要好。
第二方面,本發明提供了一種產品,其含有上述高分子兩性表面活性劑,上述高分子兩性表面活性劑在產品中作為控油、去屑或止癢的功效物質。
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