[發(fā)明專利]基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器光對準(zhǔn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910877513.3 | 申請日: | 2019-09-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110631717B | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尤立星;張成俊;張偉君;孫興渠;李浩;王鎮(zhèn) | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J11/00 | 分類號(hào): | G01J11/00 |
| 代理公司: | 上海泰能知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31233 | 代理人: | 宋纓 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 輔助 曝光 結(jié)構(gòu) 導(dǎo)納 米線 光子 探測器 對準(zhǔn) 方法 | ||
1.一種基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,包括:
超導(dǎo)納米線單光子探測器;
若干個(gè)輔助曝光納米線結(jié)構(gòu),位于所述超導(dǎo)納米線單光子探測器外圍,且貼置于所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面外邊緣,且所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)臨近所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的一側(cè)與所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面的邊緣無縫接觸;所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面的外圍與所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面的結(jié)構(gòu)相同,在使用電子束曝光技術(shù)曝光形成所述超導(dǎo)納米線單光子探測器中的超導(dǎo)納米線時(shí),避免臨近效應(yīng)的影響,確保所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面邊緣的所述超導(dǎo)納米線的線寬與光敏面中心的所述超導(dǎo)納米線的線寬相同,確保所述超導(dǎo)納米線單光子探測器中所述超導(dǎo)納米線的線寬均勻,提高所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的性能,且所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)用于入射光與所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面的光對準(zhǔn),包括將入射光投射于所述超導(dǎo)納米線單光子探測器上,使用所述超導(dǎo)納米線單光子探測器對所述入射光進(jìn)行光探測,同時(shí)使用所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)判斷所述入射光的光斑是否偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面,并于所述入射光的光斑偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面時(shí)對所述入射光的入射方向進(jìn)行調(diào)整。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,所述超導(dǎo)納米線單光子探測器包括多根超導(dǎo)納米線;各所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)均包括單根超導(dǎo)納米線。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,所述超導(dǎo)納米線單光子探測器中的多根所述超導(dǎo)納米線沿相同方向延伸構(gòu)成互嵌式多像素結(jié)構(gòu);所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)貼置于所述互嵌式多像素結(jié)構(gòu)的側(cè)面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,所述輔助曝光結(jié)構(gòu)中的所述超導(dǎo)納米線沿所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面的周向呈曲折蜿蜒狀延伸。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)中的超導(dǎo)納米線的線寬與所述超導(dǎo)納米線單光子探測器中的超導(dǎo)納米線的線寬相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)的數(shù)量為多個(gè),多個(gè)所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)分布于所述超導(dǎo)納米線單光子探測的光敏面相對的兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于輔助曝光結(jié)構(gòu)的超導(dǎo)納米線單光子探測器,其特征在于,使用所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)判斷所述入射光的光斑是否偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面,并于所述入射光的光斑偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面時(shí)對所述入射光的入射方向進(jìn)行調(diào)整包括如下步驟:
將所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)與多通道計(jì)數(shù)器相連接;
依據(jù)所述多通道計(jì)數(shù)器顯示的各所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)探測到的光計(jì)數(shù)的大小判斷所述光斑是否偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面;在所述光斑偏離所述超導(dǎo)納米線單光子探測器的光敏面時(shí)判斷所述光斑的偏離位置,依據(jù)所述光斑的偏離位置調(diào)整所述入射光的入射方向直至各所述輔助曝光納米線結(jié)構(gòu)探測到的光計(jì)數(shù)相同。
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