[發(fā)明專利]一種溝道孔內(nèi)的阻擋氧化層生成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910872707.4
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN110620078B
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 艾義明;王孝進(jìn);李軍輝;沈保家;周靜蘭
• 申請（專利權(quán)）人: 長江存儲科技有限責(zé)任公司
• 主分類號: H01L21/768
• 分類號: H01L21/768;H01L27/11551;H01L27/11578
• 代理公司: 深圳市六加知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44372
• 代理人: 向彬

1.一種溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，包括：

在溝道孔內(nèi)沉積氮化硅；

向反應(yīng)室內(nèi)通入生成阻擋氧化層的氧化反應(yīng)氣體，并通過預(yù)設(shè)的進(jìn)氣參數(shù)向反應(yīng)室通入惰性氣體；

反應(yīng)預(yù)設(shè)時間后得到形成在所述溝道孔內(nèi)的阻擋氧化層；

所述惰性氣體流通過溝道孔一側(cè)進(jìn)入溝道孔底部，隨后通過溝道孔的另一側(cè)吹出，形成惰性氣體流將氧化反應(yīng)氣體帶入溝道孔底部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，所述惰性氣體為Ar。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，所述惰性氣體形成惰性氣體流，將氧化反應(yīng)氣體帶入溝道孔底部。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，獲取溝道孔的形貌結(jié)構(gòu)，從而設(shè)定惰性氣體的所述進(jìn)氣參數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，所述進(jìn)氣參數(shù)包括：進(jìn)氣角度、進(jìn)氣速度、氣體濃度、惰性氣體和氧化反應(yīng)氣體占比中的一項或者多項。

6.一種溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，包括：

溝道孔為雙疊層結(jié)構(gòu)；

在溝道孔內(nèi)沉積氮化硅；

獲取溝道孔的形貌結(jié)構(gòu)；

通過所述溝道孔的形貌結(jié)構(gòu)，設(shè)定惰性氣體的進(jìn)氣參數(shù)；

所述進(jìn)氣參數(shù)包括所述惰性氣體相對于晶圓表面的進(jìn)氣角度；

向反應(yīng)室內(nèi)通入生成阻擋氧化層的氧化反應(yīng)氣體，并通過上述進(jìn)氣角度向反應(yīng)室通入惰性氣體；

反應(yīng)預(yù)設(shè)時間后得到形成在所述溝道孔內(nèi)的阻擋氧化層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，

所述溝道孔形貌結(jié)構(gòu)包括上溝道孔和下溝道孔的尺寸參數(shù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，

所述溝道孔形貌結(jié)構(gòu)還包括上溝道孔和下溝道孔的偏差距離和偏差方向。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的溝道孔內(nèi)阻擋氧化層生成方法，其特征在于，所述進(jìn)氣參數(shù)包括：進(jìn)氣角度、進(jìn)氣速度、氣體濃度、惰性氣體和氧化反應(yīng)氣體占比中的一項或者多項。