[發明專利]一種GaN基PIN二極管器件結構及其制備方法在審
| 申請號: | 201910870538.0 | 申請日: | 2019-09-16 |
| 公開(公告)號: | CN110544719A | 公開(公告)日: | 2019-12-06 |
| 發明(設計)人: | 張紫輝;劉亞津;張勇輝;賈興宇 | 申請(專利權)人: | 河北工業大學 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/868;H01L21/329 |
| 代理公司: | 12210 天津翰林知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 趙鳳英<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 300130 天津市紅橋區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 傳輸層 重摻雜 半導體 本征層 插入層 絕緣層 載流子 反向擊穿電壓 外延生長方向 電流擴展層 二極管器件 均勻電流 歐姆電極 器件結構 緩沖層 生長 襯底 制備 暴露 | ||
本發明為一種GaN基PIN二極管器件結構及其制備方法。該二極管器件結構沿著外延生長方向依次包括:襯底、緩沖層、N?型重摻雜半導體傳輸層;所述的N?型重摻雜半導體傳輸層上分布有N?型本征層,所述的N?型本征層上生長有P?型重摻雜半導體傳輸層,P?型重摻雜半導體傳輸層頂部外緣環狀部分為N?型插入層,為在P?型重摻雜半導體傳輸層的材質上注入N型離子而得;所述的N?型插入層的外緣上生長有環狀的絕緣層;隨后依次為電流擴展層、P?型歐姆電極,N型歐姆電極位于暴露的N?型重摻雜半導體傳輸層之上。本發明使邊緣載流子濃度有效降低,實現更均勻電流擴展,同時不影響反向擊穿電壓。
技術領域
本發明涉及電力電子器件技術領域,具體的說是一種降低邊緣載流子濃度,抑制俄歇復合,減緩電流擁擠效應的新型PIN二極管器件結構。
背景技術
PIN二極管主要是由重摻雜的n+型和p+型半導體傳輸層,中間夾一層電阻率很高的本征層(I層)組成,從而實現較高的反向擊穿電壓,并實現一定頻率范圍的信號調制功能。PIN二極管是以PN結為結構基礎,通過少數載流子(簡稱少子)的注入,實現正向開態工作過程,這個過程被稱為電導調制,在正向導通時漂移區通過電導調制實現比較小的導通電阻,這樣可以使器件利用低摻雜漂移區獲得高擊穿電壓的同時,保持著較小的正向導通壓降特性。作為第三代半導體的代表,GaN及其相關異質結具有帶隙大、擊穿電場大、電子飽和速度高等材料特性,非常適合制備高壓大功率器件,因此基于GaN的PIN二極管由于其開關速度快,反向擊穿電壓高,可控功率大,損耗小,以及在正、反向偏置下能得到近似短路和開路的良好特性,所以在高壓電網、電動汽車、白色家電等領域具有重要的應用潛力。
目前,大多數GaN PIN二極管可以分為兩類:一種是基于GaN自支撐襯底(Ohta,etal.Vertical GaN p-n junction diodes with high breakdown voltages over 4kV.IEEE Electron Device Letters 36,11(2015):1180-1182)或者SiC襯底(Yoo,et al.Epitaxial Growth and Device Design Optimization of Full-Vertical GaN p-i-nRectifiers.Journal of Electronic Materials 36,4(2007):353-358)的垂直器件,這種襯底上生長的GaN外延層缺陷密度小,但成本較高。另一種類型是在晶格不匹配的襯底(如藍寶石)上通過異質外延的方式,制備GaN準垂直二極管(Zheng,et al.Suppressionof Current Leakage Along Mesa Surfaces in GaN-Based p-i-n Diodes.IEEEElectron Device Letters 36,9(2015):932-934)。在這種類型的結構中,通過臺面刻蝕的方式,暴露n-型GaN之后,在p-GaN層和n-GaN層表面制備p型歐姆電極和n型歐姆電極,該設計的一個主要缺點是在器件正向工作區間,電流在臺面邊緣擁擠嚴重,因此俄歇復合效應較為明顯。為了減緩電流在臺面邊緣處的擁擠效應,方式之一是需提高N型重摻雜半導體電子傳輸層的摻雜濃度或者增加其厚度,從而可以減少該層的電阻,減緩電流的邊緣擁擠效應(Zhang,et al.“Reduction of on-Resistance and Current Crowding in Quasi-Vertical GaN Power Diodes.”Applied Physics Letters 111,16(2017):163506.),但是這種方式N摻雜過重,會在晶格中引入大量缺陷,晶體質量下降,漏電流會增加。
發明內容
本發明的目的是針對準垂直GaN的PIN功率器件的技術中存在的不足,提供一種PIN二極管器件的解決方案,從而可以緩解電流在臺面邊緣擁擠嚴重的情況。本發明中提出的結構在P-型重摻雜半導體傳輸層頂部兩側嵌入了N-型插入層,形成了內嵌的PN結,利用該內嵌PN結耗盡區中的內建電場,使邊緣載流子濃度有效降低,實現更均勻電流擴展,同時不影響反向擊穿電壓。
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