[發明專利]用于熔合工件的方法

有效

• 申請號: 201910870185.4
• 申請日: 2015-03-05
• 公開（公告）號: CN110538996B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發明（設計）人: J.巴克倫;T.洛克
• 申請（專利權）人: 阿卡姆股份公司
• 主分類號: B22F10/28
• 分類號: B22F10/28;B22F10/30;B22F12/00;B22F12/41;B23K26/06;B23K26/073;B23K26/342;B29C64/153;B29C64/386;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02;G02B27/09
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張健;申屠偉進

1.一種用于通過接續地安置被熔合在一起以形成三維物件的粉末材料的個體層來形成所述物件的裝置，所述裝置包括：

至少一個高能量射束源，用于發射高能量射束以用于執行下述至少一項：加熱或熔合所述粉末材料；

用于在所述粉末材料上偏轉高能量射束的偏轉源；

用于將所述高能量射束聚焦在所述粉末材料上以便形成高能量射束斑的聚焦透鏡；

至少一個散光透鏡；以及

至少一個控制器，被配置成控制所述至少一個散光透鏡，以便在粉末層上將所述高能量射束斑成形為使得：所述高能量射束斑在所述粉末層上的形狀在與所述高能量射束的偏轉方向平行的方向上比在與所述高能量射束的所述偏轉方向垂直的方向上更長，

其中：

在所述粉末材料上所述高能量射束的掃描期間或者在所述粉末材料上所述高能量射束的接續掃描之間，所述平行方向上所述高能量射束斑的長度與所述垂直方向上所述高能量射束斑的寬度之比作為所述能量射束在工件上的功率的函數而變化；并且

所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述寬度是恒定值。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述高能量射束是電子束或激光束中的至少一個。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述偏轉源是可傾斜鏡。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中所述偏轉源是可傾斜透鏡。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中所述偏轉源是偏轉線圈。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述平行方向上所述高能量射束斑的所述長度與所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述寬度之比還作為所述高能量射束在所述工件上的位置的函數而變化。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中所述能量射束在與所述偏轉方向平行的方向上同與所述偏轉方向垂直的方向相比至少五倍長。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中所述能量射束在與所述偏轉方向平行的方向上同與所述偏轉方向垂直的方向相比至少十倍長。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中對于全掃描長度、全橫截面和/或對于全3維物件，與掃描方向垂直的方向上所述工件上的平均斑大小小于與掃描方向平行的方向上所述工件上的平均斑大小。

10.一種非暫時性計算機可讀存儲介質，用于通過接續地安置被熔合在一起以形成三維物件的粉末材料的個體層來形成所述物件，所述非暫時性計算機可讀存儲介質其中存儲有計算機可讀程序代碼部分，所述計算機可讀程序代碼部分包括被配置成執行下述操作的一個或多個可執行部分：

操縱至少一個高能量射束源，用于發射高能量射束以用于執行下述至少一項：加熱或熔合所述粉末材料；

操縱用于將所述高能量射束聚焦在所述粉末材料上的聚焦透鏡，以便在工件上形成高能量射束斑；以及

經由至少一個散光透鏡來在粉末層上將所述高能量射束斑成形為使得：所述高能量射束斑在所述粉末層上的形狀在與所述高能量射束的偏轉方向平行的方向上比在與所述高能量射束的所述偏轉方向垂直的方向上更長，

其中：

在所述粉末材料上所述高能量射束的掃描期間或者在所述粉末材料上所述高能量射束的接續掃描之間，所述平行方向上所述高能量射束斑的長度與所述垂直方向上所述高能量射束斑的寬度之比作為所述能量射束在所述工件上的功率的函數而變化；并且

所述垂直方向上所述高能量射束斑的所述寬度是恒定值。

11.根據權利要求10所述的非暫時性計算機可讀存儲介質，其中所述高能量射束是電子束或激光束中的至少一個。

12.根據權利要求10所述的非暫時性計算機可讀存儲介質，其中所述偏轉源是可傾斜鏡或可傾斜透鏡中的至少一個。