[發明專利]電子設備的殼體及其制作方法、電子設備

有效

• 申請號: 201910870109.3
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN110468440B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 成樂;楊光明;侯體波
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: C25D11/12
• 分類號: C25D11/12;C25D11/14;C25D11/22;C25D11/26;C25D5/02;C25D7/00;C25D5/38;C23C4/131;C23C4/06
• 代理公司: 深圳市隆天聯鼎知識產權代理有限公司 44232
• 代理人: 劉抗美

1.一種電子設備的殼體，其特征在于，包括：

金屬殼體本體，所述金屬殼體本體的一個表面上設置有凹槽；

涂層，所述涂層填充在所述凹槽中，所述涂層和所述金屬殼體本體接觸，所述金屬殼體本體的材料與形成涂層的材料不同；

第一陽極氧化層，所述第一陽極氧化層設置在所述涂層遠離所述凹槽的表面上；

第二陽極氧化層，所述第二陽極氧化層設置在所述金屬殼體本體的所述表面上；

其中，所述第一陽極氧化層具有的第一顏色與所述第二陽極氧化層具有的第二顏色不同，且所述第一陽極氧化層和所述第二陽極氧化層是通過一次陽極氧化處理形成的，所述第一顏色是對所述涂層的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，且所述第二顏色是對所述金屬殼體本體的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，所述第一陽極氧化層遠離所述凹槽的表面與所述第二陽極氧化層遠離所述金屬殼體本體的表面齊平。

2.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，形成所述金屬殼體本體的材料與形成所述涂層的材料不同。

3.根據權利要求2所述的殼體，其特征在于，所述金屬殼體本體由鈦或鈦合金形成，且所述涂層由鋁或鋁合金形成。

4.根據權利要求3所述的殼體，其特征在于，所述鋁合金中鋁的含量大于98.5w/w%、硅的含量小于1.5w/w%。

5.根據權利要求1所述的殼體，其特征在于，所述涂層在所述金屬殼體本體上的正投影與所述第一陽極氧化層在所述金屬殼體本體上的正投影完全重合。

6.一種制作電子設備的殼體的方法，其特征在于，包括：

在金屬殼體本體的一個表面加工出凹槽；

在所述凹槽中形成涂層，所述涂層和所述金屬殼體本體接觸，所述金屬殼體本體的材料與形成涂層的材料不同；

對所述金屬殼體本體的所述表面和所述涂層遠離所述凹槽的表面進行一次陽極氧化處理，以獲得不同顏色的第一陽極氧化層和第二陽極氧化層，所述第一顏色是對所述涂層的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，且所述第二顏色是對所述金屬殼體本體的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，所述第一陽極氧化層遠離所述凹槽的表面與所述第二陽極氧化層遠離所述金屬殼體本體的表面齊平。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述金屬殼體本體由鈦或鈦合金形成，且所述涂層由鋁或鋁合金形成。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，形成所述涂層的方法包括電弧噴涂，且所述電弧噴涂采用惰性氣體保護。

9.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，在進行所述一次陽極氧化處理步驟之前，對所述涂層遠離所述凹槽的表面進行打磨處理。

10.一種電子設備，其特征在于，包括：

殼體，所述殼體包括層疊設置的金屬殼體本體、涂層、第一陽極氧化層和第二陽極氧化層，所述金屬殼體本體的一個表面上設置有凹槽，所述涂層填充在所述凹槽中，所述涂層和所述金屬殼體本體接觸，所述金屬殼體本體的材料與形成涂層的材料不同，其中，所述第一陽極氧化層具有的第一顏色與所述第二陽極氧化層具有的第二顏色不同，且所述第一陽極氧化層和所述第二陽極氧化層是通過一次陽極氧化處理形成的，所述第一顏色是對所述涂層的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，且所述第二顏色是對所述金屬殼體本體的材料進行所述陽極氧化處理獲得的，所述第一陽極氧化層遠離所述凹槽的表面與所述第二陽極氧化層遠離所述金屬殼體本體的表面齊平；

顯示裝置，所述顯示裝置與所述殼體相連。