[發明專利]一種交錯式斜孔結構光柵板的制作方法及光柵板

有效

• 申請號: 201910869768.5
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN110632690B
• 公開（公告）日: 2021-08-24
• 發明（設計）人: 岳力挽;毛智彪;顧大公;馬瀟;許從應
• 申請（專利權）人: 寧波南大光電材料有限公司
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;H01L21/302
• 代理公司: 深圳盛德大業知識產權代理事務所(普通合伙) 44333
• 代理人: 賈振勇

1.一種交錯式斜孔結構光柵板的制作方法，其特征在于，包括步驟:

對襯底進行直角刻蝕形成凹槽；

對所述凹槽的一側進行斜角刻蝕形成第一斜角；

在形成所述第一斜角的襯底的凹槽內設置所述第一介質膜形成介質膜凹槽；對形成所述介質膜凹槽的襯底進行研磨及晶圓鍵合；將完成所述晶圓鍵合的襯底進行翻轉，對介質膜凹槽上層的襯底進行研磨；對研磨后的襯底進行刻蝕，去除所述介質膜凹槽內的所述第一介質膜，形成倒斜角；

對形成所述倒斜角的襯底進行斜角刻蝕形成第二斜角，第二斜角對應的第二斜邊與第一斜角翻轉過后形成的倒斜角對應的倒斜邊平行且等長；

將交錯排列的光刻圖形設置在已形成所述第二斜角的襯底正上方，讓所述光刻圖形與所述襯底上的圖形方向垂直設置，對襯底上的光刻膠進行光刻；

對完成光刻后的圖形進行顯影，保留形成有所述第二斜角的襯底上與光刻圖形位置對應的光刻膠及中間層，通過刻蝕去除未被所述光刻膠及中間層覆蓋部分，形成交錯式斜臺光柵板；

除去形成在所述交錯式斜臺光柵板上的所述光刻膠及中間層；

在所述交錯式斜臺光柵板上設置第二介質膜進行全覆蓋；

對所述交錯式斜臺光柵板上表面進行研磨，去除置于交錯式斜臺上表面的所述第二介質膜；

對研磨后的所述交錯式斜臺光柵板進行刻蝕，去除所述交錯式斜臺，形成交錯式斜孔結構光柵板。

2.如權利要求1所述的交錯式斜孔結構光柵板的制作方法，其特征在于，所述對所述凹槽的一側進行斜角刻蝕形成第一斜角的步驟具體包括：

將光掩膜板對應所述凹槽的位置向所述凹槽的第一側偏離設置；

對已形成所述凹槽的襯底上的光刻膠進行光刻，并對中間層進行刻蝕，使所述凹槽的第一側直角區域露出、第二側直角區域保留所述光刻膠的覆蓋；

對所述凹槽的第一側直角區域進行刻蝕形成所述第一斜角。

3.如權利要求2所述的交錯式斜孔結構光柵板的制作方法，其特征在于，所述對形成所述倒斜角的襯底進行斜角刻蝕形成第二斜角的步驟具體包括：

將所述光掩膜板對應形成所述倒斜角的襯底的位置向所述襯底的第一側偏離設置；

對已形成所述倒斜角的襯底上的光刻膠進行光刻，并對中間層進行刻蝕，使形成所述倒斜角的凹槽第一側直角區域露出、第二側倒斜角區域保留所述光刻膠的覆蓋；

對形成所述倒斜角的凹槽的第一側直角區域進行刻蝕形成所述第二斜角。

4.如權利要求2所述的交錯式斜孔結構光柵板的制作方法，其特征在于，對襯底進行直角刻蝕形成凹槽的步驟具體包括：

將所述光掩膜板設置在所述襯底正上方；

對形成在所述襯底上的光刻膠進行光刻，并對中間層進行刻蝕；

對所述襯底進行所述直角刻蝕形成凹槽。

5.如權利要求2所述的交錯式斜孔結構光柵板的制作方法，其特征在于，在將光掩膜板對應所述凹槽的位置向所述凹槽的第一側偏離設置的步驟之前，還包括步驟：

除去已形成所述凹槽的襯底上的所述光刻膠及中間層；

對已形成所述凹槽的襯底重新旋涂光刻膠及中間層進行完整覆蓋。

6.一種光柵板，其特征在于，包括權利要求1-5任一所述的交錯式斜孔結構光柵板的制作方法制作的光柵板。